[发明专利]位置测量系统、干涉仪系统和光刻装置

权利要求书

1.一种用于确定物体的位置的位置测量系统，所述位置测量系统包括：

·第一干涉仪和第二干涉仪，被布置为当所述物体处于第一测量区域时通过将束发射到所述物体的目标表面上来确定所述物体在第一方向上的距离；

·第三干涉仪和第四干涉仪，被布置为当所述物体处于第二测量区域时通过将束发射到所述物体的所述目标表面上来确定所述物体在所述第一方向上的距离；

其中来自所述第一干涉仪和所述第二干涉仪所发射的所述束的撞击在所述目标表面上的束斑在第二方向上的相对位置的布置与来自所述第三干涉仪和所述第四干涉仪所发射的所述束的撞击在所述目标表面上的束斑在所述第二方向上的相对位置的布置不同。

2.根据权利要求1所述的位置测量系统，其中在所述第二方向上所述第一干涉仪所发射的束与所述第二干涉仪所发射的束之间的距离与在所述第二方向上所述第三干涉仪所发射的束与所述第四干涉仪所发射的束之间的距离不同。

3.根据权利要求2所述的位置测量系统，其中所述第一干涉仪的所述束包括第一主束和第一次束，所述第二干涉仪的所述束包括第二主束和第二次束，所述第三干涉仪的所述束包括第三主束和第三次束，并且所述第四干涉仪的所述束包括第四主束和第四次束。

4.根据权利要求3所述的位置测量系统，其中

·所述第一主束在所述第二方向上与所述第一次束隔开第一束距离，

·所述第一次束在所述第二方向上与所述第二主束隔开第二束距离，

·所述第二主束在所述第二方向上与所述第二次束隔开第三束距离，

·所述第三主束在所述第二方向上与所述第三次束隔开第四束距离

·所述第三次束在所述第二方向上与所述第四主束隔开第五束距离，以及

·所述第四主束在所述第二方向上与所述第四次束隔开第六束距离，

其中所述第一束距离和所述第四束距离、或所述第二束距离和所述第五束距离、或所述第三束距离和所述第六束距离中的至少一者彼此不同。

5.根据前述权利要求中一项或多项所述的位置测量系统，还包括处理单元，所述处理单元被布置为基于所述第一干涉仪、所述第二干涉仪、所述第三干涉仪和所述第四干涉仪所确定的所述物体的距离来确定所述目标表面的形状。

6.根据权利要求5所述的位置测量系统，其中所述处理单元被配置为确定当所述物体处于所述第一测量区域时相对于所述第一干涉仪和所述第二干涉仪的所述束以及当所述物体处于所述第二测量区域时相对于所述第三干涉仪和所述第四干涉仪的所述束的所述物体的所述目标表面在所述第二方向上的参考位置，并且所述处理单元被布置为基于所述确定的参考位置来确定所述目标表面的所述形状。

7.根据权利要求5或6所述的位置测量系统，所述处理单元还被布置为：

·基于所述第一干涉仪和所述第二干涉仪在所述第一测量区域中所确定的所述物体的所述距离，确定所述目标表面的形状的第一空间波长轮廓，

·基于在所述第二测量区域中所确定的所述物体距离来确定所述目标表面的所述形状的第二空间波长轮廓，

·进行所述第一空间波长轮廓和所述第二空间波长轮廓的加权组合，其中权重系数基于所述第一空间波长轮廓和所述第二空间波长轮廓之间的差异。

8.根据权利要求5至7中一项或多项所述的位置测量系统，其中所述处理单元被布置为在确定所述目标表面的所述形状时考虑设计数据。

9.一种光刻装置，包括

·根据权利要求1至8中一项或多项所述的位置测量系统；

·掩模支撑件，用于保持具有图案的图案化设备；

·投影系统，用于将所述图案投影到衬底上；以及

·衬底台，用于保持所述衬底，

其中所述衬底台包括所述物体。

10.一种校准用于定位物体的位置测量系统的方法，所述方法包括以下步骤：

·将所述物体布置在第一测量区域中；

·在所述第一测量区域中沿第二方向移动所述物体，并且使用第一干涉仪确定所述物体在第一方向上的多个距离并且使用第二干涉仪确定所述物体在第一方向上的多个距离；

·将所述物体布置在第二测量区域中；

·在所述第二测量区域中沿所述第二方向移动所述物体，并且使用第三干涉仪确定所述物体在所述第一方向上的多个距离并且使用第四干涉仪确定所述物体在所述第一方向上的多个距离，其中所述第一干涉仪和所述第二干涉仪发射到所述物体的目标表面的束的布置与所述第三干涉仪和所述第四干涉仪发射到所述物体的所述目标表面上的束的布置不同；

·基于如由所述第一测量区域和所述第二测量区域中的所述干涉仪所确定的所述物体的所述多个距离来确定所述物体的所述目标表面的形状。