[发明专利]多晶硅棒的制造方法以及反应炉有效

专利信息
申请号: 201980024471.7 申请日: 2019-03-27
公开(公告)号: CN111936420B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 立川敬史;相本恭正 申请(专利权)人: 株式会社德山
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C01B33/035;C23C16/24
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 吕琳;朴秀玉
地址: 日本山口*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多晶 制造 方法 以及 反应炉
【权利要求书】:

1.一种多晶硅棒的制造方法,其特征在于,

使用如下构造的反应炉:利用钟罩和底板将内部密闭,在所述底板设有用于保持多条硅芯线并且对所述硅芯线通电的电极对,进而,在所述底板以顶端喷出口朝上的方式分别设有用于向所述钟罩的内部空间供给硅沉积用原料气体的多个气体供给喷嘴,

一边对所述硅芯线通电一边使硅沉积用原料气体从所述气体供给喷嘴喷出,由此使多晶硅沉积在所述硅芯线,

作为所述气体供给喷嘴的至少一个,使用流量放大喷嘴,其具有通过被供给至喷嘴的硅沉积用原料气体与被导入喷嘴内的钟罩内气氛混合而被增量并吹出的作用,

并且,所述流量放大喷嘴在喷嘴周壁设有周壁开口部,具有:所述原料气体在喷嘴内的硅沉积用原料气体流通路朝向顶端喷出口流动时,从所述周壁开口部将喷嘴周围的气氛吸入至所述硅沉积用原料气体流通路的作用,

所述流量放大喷嘴为所述周壁开口部的内壁侧开口面上端位处的硅沉积用原料气体流通路的内空截面积比所述周壁开口部的内壁侧开口面下端位附近处的硅沉积用原料气体流通路的内空截面积大的构造。

2.根据权利要求1所述的多晶硅棒的制造方法,其中,

供给至喷嘴的硅沉积用原料气体与被导入喷嘴内的钟罩内气氛混合,原料气体的容量被增量为1.1~3.0倍。

3.一种多晶硅棒制造用反应炉,其特征在于,为如下构造:利用钟罩和底板将内部密闭,在所述底板设有用于保持多条硅芯线并且对所述硅芯线通电的电极对,进而,在所述底板以顶端喷出口朝上的方式分别设有用于向所述钟罩的内部空间供给硅沉积用原料气体的多个气体供给喷嘴,

所述气体供给喷嘴的至少一个是流量放大喷嘴,其具有通过被供给至喷嘴的硅沉积用原料气体与被导入喷嘴内的钟罩内气氛混合而被增量并吹出的作用,

并且,所述流量放大喷嘴在喷嘴周壁设有周壁开口部,具有:所述原料气体在喷嘴内的硅沉积用原料气体流通路朝向顶端喷出口流动时,从所述周壁开口部将喷嘴周围的气氛吸入至所述硅沉积用原料气体流通路的作用,

所述流量放大喷嘴为所述周壁开口部的内壁侧开口面上端位处的硅沉积用原料气体流通路的内空截面积比所述周壁开口部的内壁侧开口面下端位附近处的硅沉积用原料气体流通路的内空截面积大的构造。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社德山,未经株式会社德山许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980024471.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top