[发明专利]用于选择性透射对象的设备和方法

权利要求书

1.一种用于选择性地透射关注对象的设备单元，其中所述设备单元包括：

块体材料；

喉部，其设置在所述块体材料内并且从第一喉部开口延伸至与所述第一喉部开口相对的第二喉部开口；并且其中所述喉部具有在与所述设备单元相互作用之前小于所述关注对象的1000个平均自由路径长度的长度；以及

第一聚焦设备，其中所述第一聚焦设备设置在所述块体材料内并且靠近所述喉部的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的设备单元，其中所述第一聚焦设备具有在与所述设备单元相互作用之前所述关注对象的一个自由平均路径长度的量级的长度。

3.根据权利要求1所述的设备单元，其中所述第一聚焦设备靠近所述第一喉部开口设置并且被配置为将关注对象拉向靠近所述第一喉部开口的所述块体材料。

4.根据权利要求1所述的设备单元，其中所述第一聚焦设备靠近所述第一喉部开口设置并且被配置为排斥所述关注对象远离靠近所述第一喉部开口的所述块体材料。

5.根据权利要求1所述的设备单元，进一步包括第二聚焦设备，所述第二聚焦设备设置在所述块体材料内并且靠近所述第二喉部开口。

6.根据权利要求5所述的设备单元，其中所述第二聚焦设备包括一个或多个电荷收集器。

7.根据权利要求1所述的设备单元，其中所述关注对象包括电子、离子、带电的灰尘粒子、带电的气溶胶、永久电偶极子、感应的电偶极子、原子、分子、永久磁偶极子、感应的磁偶极子或前述任何一种的组合。

8.根据权利要求1所述的设备单元，其中所述关注对象包括光子、电子、具有永久或感应的电偶极子的对象、具有永久或感应的磁偶极子的对象、具有作为极化轴线的对象或前述任何一种的组合。

9.根据权利要求1所述的设备单元，其中所述设备单元被配置为改变靠近所述第一喉部开口和/或所述第二喉部开口的所述关注对象的特性。

10.根据权利要求9所述的设备单元，其中所述特性是在所述第一喉部开口和/或所述第二喉部开口处所述关注对象的数量密度。

11.根据权利要求9所述的设备单元，其中所述特性的改变是通过与所述第一聚焦设备的相互作用而引起的。

12.根据权利要求9所述的设备单元，其中所述特性是在所述第一喉部开口和/或所述第二喉部开口处所述关注对象的矢量特性。

13.根据权利要求12所述的设备单元，其中改变矢量特性包括：改变所述关注对象相对于所述第一喉部开口和/或所述第二喉部开口的几何构型的所述取向。

14.根据权利要求1所述的设备单元，其中

所述第一喉部开口相对于所述关注对象扩散地耦接至第一储存器；以及

所述第二喉部相对于所述关注对象扩散地耦接至第二储存器。

15.根据权利要求14所述的设备单元，其中所述第一储存器和所述第二储存器中的每一个独立地包括电磁场。

16.根据权利要求15所述的设备单元，进一步包括：

第一储存器聚焦/散焦设备，其位于所述第一储存器内并靠近所述第一喉部开口；和/或

第二储存器聚焦/散焦设备，其位于所述第二储存器内并靠近所述第二喉部开口。

17.一种系统，其包括两个或更多个根据权利要求1所述的设备单元。

18.根据权利要求17所述的系统，包括权利要求1所述的设备子单元的平面阵列。

19.一种将关注对象从第一储存器选择性地透射到第二储存器的方法，所述方法包括：

提供根据权利要求1所述的设备单元，其中所述第一喉部开口扩散地耦接至所述第一储存器，并且所述第二喉部开口扩散地耦接至所述第二储存器；以及

通过激活所述第一聚焦设备生成力场，

从而将关注对象从所述第一储存器选择性地透射到所述第二储存器。