[发明专利]光扩散阻挡膜

权利要求书

1.一种光扩散阻挡膜，顺序地包括光扩散层、基础层和阻挡层，

其中所述光扩散层的与面向所述基础层的一侧相反的一侧S₁具有表面粗糙度Rt在0.1μm至6 μm的范围内的不平度，

其中所述表面粗糙度Rt意指当在垂直于表面的方向上观察旨在测量表面粗糙度的层时，最高点H₁与最低点H₂之间的距离，即高度差ΔH=H₁-H₂，

其中所述光扩散层由涂覆组合物形成，所述涂覆组合物相对于100重量份的可固化树脂包含5重量份或更多的光扩散颗粒，并且所述不平度由所述光扩散颗粒形成，

其中由以下方程式计算的水蒸气透过变化率满足30%或更小：

[方程式]

其中，A为所述光扩散阻挡膜F₁的水蒸气透过率；B为在向所述光扩散阻挡膜F₁的所述阻挡层的表面上施加恒定载荷使得与另一光扩散阻挡膜F₂的光扩散层的不平坦表面彼此相遇以堆叠所述光扩散阻挡膜F₁和所述另一光扩散阻挡膜F₂并保持所述恒定载荷24小时之后测量的所述光扩散阻挡膜F₁的另一水蒸气透过率；所述光扩散阻挡膜F₁和所述另一光扩散阻挡膜F₂具有相同的构造，并且所述水蒸气透过率A和所述另一水蒸气透过率B使用MOCON公司的AQUATRAN 2在38℃和100%相对湿度的条件下测量。

2.一种光扩散阻挡膜，顺序地包括光扩散层、基础层和阻挡层，

其中所述光扩散层的与面向所述基础层的一侧相反的一侧S₁具有表面粗糙度Rt为0.02μm或更大且小于0.1 μm的不平度，并且所述光扩散层的具有所述表面粗糙度的一侧S₁的薄层电阻为10¹⁰Ω/sq或更小，

其中所述表面粗糙度Rt意指当在垂直于表面的方向上观察旨在测量表面粗糙度的层时，最高点H₁与最低点H₂之间的距离，即高度差ΔH=H₁-H₂，

其中所述光扩散层由涂覆组合物形成，所述涂覆组合物相对于100重量份的可固化树脂包含5重量份或更多的光扩散颗粒，并且所述不平度由所述光扩散颗粒形成，

其中由以下方程式计算的水蒸气透过变化率满足30%或更小：

[方程式]

其中，A为所述光扩散阻挡膜F₁的水蒸气透过率；B为在向所述光扩散阻挡膜F₁的所述阻挡层的表面上施加恒定载荷使得与另一光扩散阻挡膜F₂的光扩散层的不平坦表面彼此相遇以堆叠所述光扩散阻挡膜F₁和所述另一光扩散阻挡膜F₂并保持所述恒定载荷24小时之后测量的所述光扩散阻挡膜F₁的另一水蒸气透过率；所述光扩散阻挡膜F₁和所述另一光扩散阻挡膜F₂具有相同的构造，并且所述水蒸气透过率A和所述另一水蒸气透过率B使用MOCON公司的AQUATRAN 2在38℃和100%相对湿度的条件下测量。

3.根据权利要求2所述的光扩散阻挡膜，其中所述光扩散层还包含抗静电剂。

4.根据权利要求1或2所述的光扩散阻挡膜，其中所述阻挡层包括一个或更多个子阻挡层。

5.根据权利要求4所述的光扩散阻挡膜，其中所述子阻挡层的厚度在20 nm至400 nm的范围内。

6.根据权利要求4所述的光扩散阻挡膜，其中所述阻挡层或所述子阻挡层为聚硅氮烷层或所述聚硅氮烷层的固化层。