[发明专利]电磁波透过性金属光泽物品及其制造方法在审
申请号: | 201980027687.9 | 申请日: | 2019-04-22 |
公开(公告)号: | CN112004665A | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 中井孝洋;渡边太一;陈晓雷;米泽秀行;宫本幸大;有本将治 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B32B3/14 | 分类号: | B32B3/14;B32B3/30;B32B15/04 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电磁波 透过 金属 光泽 物品 及其 制造 方法 | ||
1.一种电磁波透过性金属光泽物品,其具备:具有凹凸面的基体、和在所述基体的所述凹凸面上形成的金属层,
所述金属层包含多个部分,所述多个部分中,至少一部分处于彼此不连续的状态。
2.根据权利要求1所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,在所述基体与所述金属层之间还具备含有铟氧化物的层。
3.根据权利要求2所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,所述含有铟氧化物的层以连续状态设置。
4.根据权利要求2或3所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,所述含有铟氧化物的层包含氧化铟(In2O3)、铟锡氧化物(ITO)、或铟锌氧化物(IZO)中的任意者。
5.根据权利要求2~4中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,所述含有铟氧化物的层的厚度为1nm~1000nm。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,所述凹凸面的最大高度Rz为1~100μm。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,所述金属层的厚度为10nm~100nm。
8.根据权利要求2~5中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,所述金属层的厚度与所述含有铟氧化物的层的厚度之比即所述金属层的厚度/所述含有铟氧化物的层的厚度为0.02~100。
9.根据权利要求1~8中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品,其薄层电阻为100Ω/□以上。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,所述多个部分形成为岛状。
11.根据权利要求1~10中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,所述金属层为铝(Al)、锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)、或它们的合金中的任意者。
12.根据权利要求1~11中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品,其中,所述基体为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。
13.权利要求1~12中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品的制造方法,其包括:通过溅射在所述基体的所述凹凸面上形成所述金属层。
14.根据权利要求13所述的电磁波透过性金属光泽物品的制造方法,其中,在所述基体的所述凹凸面上形成含有铟氧化物的层后,通过溅射在所述含有铟氧化物的层上形成所述金属层。
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