[发明专利]涂布系统

说明书

本发明提供涂布系统，其能够抑制腔室部的环境变化而进行保养作业，能够加快涂布环境的恢复而提高生产效率。涂布系统具有：载台部，其载置基板；台架单元，其具有涂布器，该涂布器向载台部上的基板涂布涂布液；维护单元，其进行涂布器的涂布液喷出侧的维护；以及腔室部，其以密封状态收纳载台部、台架单元、维护单元，其中，台架单元具有闸板部，该闸板部具有门部，涂布器通过进行升降动作从而能够穿插于该门部，维护单元具有密封部，该密封部与闸板部抵接并将门部封闭，从而将腔室部在密封的状态下划分成比闸板部靠上侧的访问腔室部和比闸板部靠下侧的主体侧腔室部。

技术领域

本发明涉及在惰性气体环境下在基板上形成涂布膜的涂布系统，尤其涉及在维护时能够抑制气体置换量的涂布系统。

背景技术

通常，在半导体器件、有机EL等的制作中，使用了在惰性气体环境下形成涂布膜的涂布系统。这样的涂布系统由形成涂布膜的涂布装置和以基板上的涂布膜不被氧化的方式收纳涂布装置的腔室部构成(例如，参照下述专利文献1)。

具体来说，如图7所示，涂布装置100具有：载台部101，其载置基板W；搬送驱动部102，其使该载台部101沿一个方向进行搬送；台架单元103，其以横跨搬送驱动部102的方式设置，具有喷出液滴(墨)的涂布器103a(例如，喷墨头)，在涂布动作时，一边通过搬送驱动部102使载台部101移动，一边从涂布器103a的喷嘴喷出涂布液，从而在基板W上形成涂布膜。而且，在搬送驱动部102上设置有维护单元104，在形成了规定张数的带涂布膜的基板W之后，通过维护单元104进行涂布器103a的维护。即，在使维护单元104移动到涂布器103a的正下方位置(对置位置)并使涂布器103a下降之后，进行渗出、冲洗等喷嘴侧维护。

并且，腔室部105形成为能够将腔室部105内维持为规定的环境。即，在涂布装置100工作时，通过一边提供惰性气体一边进行排气，能够极力降低腔室内的氧浓度，维持为规定的涂布环境。即，能够在维持为规定的环境的腔室部105内进行涂布动作及维护动作等一系列的涂布装置100的动作。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-229607号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，在上述涂布系统中，存在当进行涂布器103a的部件更换等的保养作业时会大幅改变腔室部105内的环境的问题。即，在腔室部105上形成有能够访问涂布器103a的保养门部106，在涂布器103a的保养作业时，是通过该保养门部106来进行的。但是，当打开保养门部106时，腔室部105整体开放从而使腔室部105内暴露在大气中，因此需要使一系列的涂布装置100的动作全部中断。

并且，一旦改变腔室部105内的环境时，为了使腔室部105内恢复为原来的惰性气体环境需要很长时间，因此，存在涂布动作的恢复延迟、涂布系统的生产效率降低的问题。

本发明是鉴于上述问题点而完成的，其目的在于，提供能够抑制腔室部的环境变化而进行保养作业并且能够加快涂布环境的恢复而提高生产效率的涂布系统。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题，本发明的涂布系统具有：载台部，其载置基板；台架单元，其具有涂布器，该涂布器向所述载台部上的基板涂布涂布液；维护单元，其进行所述涂布器的涂布液喷出侧的维护；以及腔室部，其以密封状态收纳所述载台部、所述台架单元、所述维护单元，该涂布系统一边使所述台架单元和所述载台部相对地移动，一边从涂布器向基板上喷出涂布液，其特征在于，所述台架单元具有闸板部，该闸板部具有门部，所述涂布器进行升降动作从而能够穿插于该门部，所述维护单元具有密封部，该密封部与所述闸板部抵接并将所述门部封闭，从而将所述腔室部在密封的状态下划分成比所述闸板部靠上侧的访问腔室部和比所述闸板部靠下侧的主体侧腔室部。