[发明专利]基板处理期间剂量图及特征尺寸图的制作及使用

说明书

本文讨论的系统与方法关于在光刻与微光刻期间图案化基板，以使用剂量形成一组或多组临界尺寸的特征。基于在制造期间捕获的图像产生剂量图，以说明在用于图案化基板的多个操作中的处理变化。剂量图与成像程序一起使用，以调节施加至基板的各个区域的电压，以便产生具有一组或多组临界尺寸的特征，并补偿原本可能导致不正确临界尺寸的上游或下游操作。

技术领域

本公开内容的实施方式大体涉及用于处理一个或多个基板的设备、系统和方法，且更特定言之涉及用于执行光刻处理的设备、系统和方法。

背景技术

光刻(photolithography)被广泛用于制造半导体装置和显示装置，诸如液晶显示器(LCD)。时常利用大面积基板以生产LCD。LCD(或平板)通常用于有源矩阵显示器，诸如电脑、触控面板装置、个人数字助理(PDA)、手机、电视监视器等。一般而言，平板包括一层液晶材料，该层液晶材料形成夹在两个板之间的像素。当来自电源供应器的电力施加在液晶材料上时，在像素位置控制穿过液晶材料的光量，以使得能够产生图像。

已经采用微光刻(microlithography)技术来产生作为形成像素的液晶材料层的一部分的电性特征。根据这些技术，将光敏光刻胶施加到基板的至少一个表面上。随后，图案产生器利用光将光敏光刻胶的选定区域作为图案的一部分进行曝光，以使选定区域中的光刻胶发生化学变化，从而制备这些所选区域以用于进行随后的材料移除和(或)材料添加处理，以产生电性特征。

为了继续以消费者所要求的价格提供显示装置和其他装置，需要新的设备和方法来精确并有成本效益地在诸如大面积基板的基板上形成图案。

发明内容

本公开内容大体系关于使用剂量图处理基板，以及剂量图的产生。在一个实施方式中，一种显示器生产方法，包含以下步骤：由储存在制造系统上的应用程序接收与部件生产相关联的至少一个输入，其中该输入包含部件标识符或生产线标识符；由应用程序基于该至少一个输入从包含多个生产程序的数据储存器选择生产程序，该生产程序包含标识目标上的多个区域的图，其中多个区域中的每个区域与不同的剂量类型相关联；执行生产程序，其中基于该图而将多个脉冲施加至电磁辐射装置，以传递不同的剂量类型；以及在执行生产程序后，在基板上产生具有预定尺寸的多个特征。在替代性实施方式中，一种装置生产方法包含：由储存在生产服务器的非暂时性记忆体中的应用程序响应于接收到多个生产输入来选择与多个生产输入中的至少一个相关联的生产程序，其中每一生产程序与生产线的多个处理参数相关联；由应用程序基于多个生产输入来选择多个剂量图中的一个剂量图；由应用程序基于该剂量图来修改所选择的生产程序中的多个处理参数的处理参数的子集；在修改处理参数的子集后，由应用程序执行所选择的生产程序；以及响应于应用程序执行所选择的生产程序，而在基板上形成具有目标尺寸的多个特征。

在一个实施方式中，一种包含内容的非暂时性电脑可读取储存介质，该内容经配置以通过执行方法而使得生产系统选择性施加脉冲至光源的区域，以施加剂量来图案化基板，该方法包含：响应于接收到多个生产输入选择与多个生产输入中的至少一个相关联的生产程序，其中每一生产程序与生产线的多个处理参数相关联；基于多个生产输入选择多个剂量图中的一个剂量图；基于所选择的剂量图修改所选择的生产程序中的多个处理参数的处理参数的子集；在修改处理参数的子集后，由应用程序执行经修改的所选择的生产程序；以及响应于执行经修改的所选择的生产程序，而在基板上形成具有目标尺寸的多个特征。

附图说明

作为可详细了解本公开内容的上述特征的方式，可参考多个实施方式来获得上文简要总结的本公开内容的更详细的描述，附图图示说明了其中一些实施方式。然而应注意到，附图仅说明示例性实施方式，且因此不应被视为对实施方式的范围的限制，并可承认其他等效的实施方式。

图1A是根据本文公开的实施方式的光刻系统的透视图。

图1B是根据本文公开的实施方式的替代性光刻系统的透视图。

图2A是根据本文公开的实施方式的图像投影设备的透视示意图。