[发明专利]检查工具、检查方法和计算机程序产品有效
申请号: | 201980029178.X | 申请日: | 2019-04-05 |
公开(公告)号: | CN112041753B | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
发明(设计)人: | R·奎因塔尼拉;S·A·米德尔布鲁克;A·C·M·库普曼;A·V·G·曼格努斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 罗利娜 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 检查 工具 方法 计算机 程序 产品 | ||
1.一种确定用于检查工具的测量序列的方法,所述检查工具检查由光刻系统执行的光刻过程生成的结构,所述方法包括:
-得出由所述光刻系统执行的所述光刻过程的模型,所述模型包括描述所述光刻系统的一组系统变量与表示所述光刻过程产生的所述结构的输出变量之间的关系,
-确定一个或多个系统变量在所述输出变量中的可观察性,以及;
-基于所述可观察性,确定用于所述检查工具的所述测量序列。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述一组系统变量包括所述光刻过程的一个或多个输入变量。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述输出变量包括感兴趣的区域的图像,所述感兴趣的区域包括由检查工具获取的所述结构。
4.根据权利要求3所述的方法,其中所述图像包括所述结构的、由电子束检查工具获取的二维数字图像。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述模型是稳态数学模型。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述模型包括所述光刻系统的状态空间模型。
7.根据权利要求3所述的方法,其中确定所述输出变量中一个或多个系统变量的可观察性包括:确定所述图像的哪个部分被所述一个或多个系统变量的改变或修改影响。
8.根据权利要求7所述的方法,其中确定用于所述检查工具的所述测量序列包括:选择与所述图像的所述部分相对应的所述感兴趣的区域的部分作为待测量区域。
9.一种检查工具,包括:
-载物台,被配置为保持样本,所述样本包括结构;
-探测装置,被配置为检查所述样本;
-检测器,被配置为检测由所述探测装置与所述样本的相互作用而引起的所述样本的响应信号;
-处理单元,被配置为:
○从所述检测器接收所述响应信号;
○基于所述响应信号生成所述结构的图像;
其中所述处理单元还被配置为:
○接收用于检查所述结构的测量序列,所述测量序列通过根据权利要求1至8中任一项所述的方法而被获取,以及
○根据所接收的测量序列检查所述样本。
10.根据权利要求9所述的检查工具,其中所述探测装置包括:
电子束源,被配置为生成电子束;以及
束操纵器,被配置为将所述电子束引导到所述样本上,并且其中所述检测器被配置为检测由所述电子束与所述样本的相互作用而引起的所述样本的响应信号。
11.根据权利要求9所述的检查工具,其中所述探测装置包括电子束源、X射线束源、光学检查束源或原子力探针。
12.一种计算机可读存储介质,具有存储在其上的计算机程序,所述计算机程序包括指令集,所述指令集在计算机上执行时使所述计算机执行根据权利要求1所述的方法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980029178.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。