[发明专利]具有翘曲基板功能的批量基板支撑件在审
申请号: | 201980029838.4 | 申请日: | 2019-04-30 |
公开(公告)号: | CN112088428A | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | S·帕特尔;A·朱普迪;R·高塔姆 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/683 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 汪骏飞;侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 翘曲基板 功能 批量 支撑 | ||
1.一种用于支撑多个基板的基板支撑件,包括:
多个基板支撑元件,所述多个基板支撑元件具有环形形状,并且被配置成以垂直间隔的关系支撑多个基板;和
多个基板举升元件,所述多个基板举升元件与所述多个基板支撑元件交界,并且被配置为同时选择性地升高或降低基板而从相应的基板支撑元件卸下基板或将所述基板置于所述相应的基板支撑元件上。
2.根据权利要求1所述的基板支撑件,其中所述多个基板支撑元件中的每一者包括狭槽,以容纳指状物,所述指状物具有从所述多个基板举升元件中的每一者延伸的举升表面。
3.根据权利要求1所述的基板支撑件,其中所述多个基板举升元件可相对于所述多个基板支撑元件在处理位置和传送位置之间移动,在所述处理位置中,所述多个基板举升元件中的每个基板举升元件设置在所述多个基板支撑元件中的相应的一者下方;在所述传送位置中,所述多个基板举升元件中的每个基板举升元件设置在所述多个基板支撑元件中的所述相应的一者上方。
4.根据权利要求1所述的基板支撑件,其中所述多个基板支撑元件中的每一者包括具有倾斜表面的支撑引导件。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板支撑件,进一步包括耦合到所述多个基板举升元件的举升基座,其中所述举升基座包括开口,以便于将所述举升基座耦合到致动器。
6.根据权利要求5所述的基板支撑件,进一步包括耦合到所述多个基板支撑元件的支撑基座,其中所述支撑基座包括开口,以便于将所述支撑基座耦合到第二致动器。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的基板支撑件,进一步包括:
举升基座,所述举升基座耦合到所述多个基板举升元件;和
支撑基座,所述支撑基座耦合到所述多个基板支撑元件并且设置在所述举升基座和所述多个基板举升元件之间并且可相对于所述举升基座移动。
8.根据权利要求7所述的基板支撑件,进一步包括:
一个或更多个引导销,所述引导销从所述举升基座延伸并通过所述支撑基座中的相应的开口,其中所述引导销不限制所述支撑基座在所述引导销的轴向方向上的移动。
9.根据权利要求7所述的基板支撑件,进一步包括:
一个或多个开口,所述一个或多个开口形成为通过所述举升基座;和
所述支撑基座的一个或多个相应的撞击表面,所述撞击表面设置在所述一个或多个开口上方。
10.根据权利要求7所述的基板支撑件,进一步包括:
一个或多个支撑引导件,所述支撑引导件沿着所述基板支撑元件沿着一直径设置,所述直径等于或略大于待被支撑的基板的给定直径。
11.根据权利要求7所述的基板支撑件,其中,所述举升基座的外径大于所述支撑基座的外径。
12.一种基板处理系统,所述基板处理系统包括:
处理腔室,所述处理腔室具有内部容积;
权利要求1至4中任一项所述的基板支撑件,所述基板支撑件设置在所述内部容积中;
可选择性密封的开口,所述可选择性密封的开口形成在所述处理腔室的壁中;和
致动器,所述致动器耦合到举升基座以将所述举升基座的位置控制在至少处理位置和传送位置中。
13.根据权利要求12所述的基板处理系统,进一步包括:
第二可选择性密封的开口,所述第二可选择性密封的开口形成在所述处理腔室的壁中。
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