[发明专利]流体消毒的装置的组件和制造的方法以及消毒装置和在使用地点处排出消毒后的流体的装置

权利要求书

1.用于流体消毒的装置的组件，具有：

-容器(1)；

-反应器室(2)，所述反应器室设置在所述容器(1)中并且设置用于容纳待消毒的流体，所述流体通过所述反应器室(2)的入口(3)到达所述反应器室中并且通过所述反应器室(2)的出口(4)离开所述反应器室；和

-辐射机构(5)，所述辐射机构设置用于提供UV光线并且为了消毒所述反应器室(2)中的流体将所述UV光线射入到所述反应器室中，

其中，所述容器(1)的容器壁(6)构造成多层的，其中，所述容器壁(6)的朝向所述反应器室(2)并且包围所述反应器室的内部的层(21)由聚四氟乙烯制成并且具有至少1.0mm的层厚度。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述容器壁(6)的所述内部的层(21)以塑料材料反向注塑。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，利用反向注塑的塑料材料形成所述容器壁(6)的外部的层(22)。

4.根据前述权利要求中至少一项所述的装置，其特征在于，在由聚四氟乙烯制成的所述内部的层(21)中，朝向所述反应器室(2)的内部的表面构造成将UV光线漫反射。

5.根据前述权利要求中至少一项所述的装置，其特征在于，所述内部的层(21)针对UV光线具有至少约90％的反射率。

6.根据前述权利要求中至少一项所述的装置，其特征在于，所述内部的层(21)在热学上耐受高达大致200℃的温度。

7.根据上述权利要求之一所述的装置，其特征在于，所述内部的层(21)具有至少1.2mm的层厚度，备选地具有至少1.5mm的层厚度。

8.根据前述权利要求中至少一项所述的装置，其特征在于，所述辐射机构(5)至少部分设置在所述反应器室(2)中并且所述辐射机构(5)的设置在所述反应器室中的区段至少局部具有由聚四氟乙烯制成的外部的涂层。

9.用于消毒流体的消毒装置，具有根据前述权利要求中至少一项所述的组件。

10.用于在使用地点(30)处排出消毒后的流体的装置，其具有

-输入管道接头(32)，通过所述输入管道接头输入要在使用地点(30)处排出的流体；

-输出管道接头(33)，通过所述输出管道接头在使用地点(30)处排出流体；和

-根据权利要求9所述的用于消毒流体的消毒装置，其中，所述消毒装置与所述输入管道接头(32)和所述输出管道接头(33)连接，连接成使得流体在通过所述输入管道接头(32)输入之后并且在使用地点(30)处排出之前在所述消毒装置中消毒。

11.用于制造用于消毒流体的装置的组件的方法，包括：

-制造具有反应器室(2)的容器(1)，所述反应器室在所述容器(1)中形成并且设置用于容纳待消毒的流体，所述流体通过所述反应器室(2)的入口(3)到达所述反应器室中并且通过所述反应器室(2)的出口(4)离开所述反应器室；和

-在所述容器(1)上构造辐射机构(5)，所述辐射机构设置用于提供UV光线并且为了消毒所述反应器室(2)中的流体，将所述UV光线射入到所述反应器室(2)中的流体上，

其中，所述容器(1)的容器壁(6)构造成多层的，其中，所述容器壁(6)的朝向所述反应器室(2)并且包围所述反应器室的内部的层(21)由聚四氟乙烯制成并且以至少1.0mm的层厚度制造。