[发明专利]营养液栽培用部件、营养液栽培方法以及营养液栽培系统

说明书

营养液栽培用部件(1)具有：栽培床槽(2)、定植平板(3)、苗架台(4)、防水性片材(5)、亲水性片材(6)以及洒水部件(洒水管(7)。使苗根团(9)穿过定植平板(3)的种植孔(3a)载置在苗架台(4)上，从洒水部件(洒水管(7))朝向苗根团(9)和苗架台(4)的顶部(4c)排出营养液，并且使营养液在栽培床槽(2)的底面(2b)流动，从而使植物生长。

技术领域

本发明涉及植物的营养液栽培用部件、使用了该营养液栽培用部件的植物的营养液栽培方法以及营养液栽培系统，特别是涉及即使在根密生的植物的栽培中，也能良好地向根供给营养液和氧的营养液栽培用部件、营养液栽培方法以及营养液栽培系统。

背景技术

近年来，尝试通过使用营养液等的水培来进行叶菜类、果菜类的栽培。水培具有以下优点：能够进行不被天气左右的稳定的蔬菜生产，并且不限定栽培场所、能够进行肥料的流出少的栽培等。

在营养液栽培方法中，适当地进行向植物的根供给营养液和氧是重要的。特别是在根生长快的植物、栽培期长的植物中，有时由于植物的根的生长而使根的生长空间成为密生状态。专利文献1中作为适当地向植物的根供给氧的方案公开了一种营养液栽培用部件以及营养液栽培方法，在该营养液栽培用部件中具有：栽培床槽，其在底面具有坡度；和定植平板，其配置于该栽培床槽之上且贯穿设置有多个种植孔，在所述栽培床槽的底面设置有排水槽，其特征在于，以覆盖于该排水槽的方式配置亲水性片材，在该亲水性片材与该排水槽的底面之间形成有通气空间。

专利文献2中公开了通过供给将敷设于栽培床的底面的保水片材浸湿的程度的营养液来进行栽培，从而以稳定的黄瓜的生长为目的的营养液栽培方法。然而，在浸湿保水片材的程度的营养液中，存在因植物的种类不同，导致营养液供给不充分的问题。

专利文献1：日本特开2017-104023号公报

专利文献2：日本特开2006-136311号公报

植物的根圈环境根据植物的生长阶段而大不相同。根圈环境例如是根的长度、发达区域、密生状况等。在播种后不久的植物的栽培初期的根较短，其发达区域较小。另一方面，接近收获期的植物的栽培后期的根较长地密生，发达区域变大。特别是在根的生长快的植物、栽培期长的植物中，有时由于植物的根的生长而使根的生长空间成为密生状态。在该情况下，设计考虑了栽培初期和栽培后期双方的根圈环境的栽培用部件的必要性提高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种营养液栽培用部件、营养液栽培方法以及营养液栽培系统，无论在栽培初期的未发达的根圈环境中、还是在栽培后期的成为密生状态的根圈环境中都能够适当地进行营养液以及氧的供给。

本发明人鉴于上述课题进行认真研究的结果发现：在营养液栽培用部件中，具有被栽培床槽和定植平板包围的根的生长空间S，在该根的生长空间S中还载置有苗架台，在其内部具有通气空间T，通过对放置植物的种子或苗的苗架台上直接洒水(营养液)，从而能够适当地向栽培初期的植物的根供给营养液，能够实现向根的供给氧和向根供给营养液这两个相反的功能。

本发明的一个方式的营养液栽培用部件具有：栽培床槽，其在底面具有坡度；和定植平板，其配置于该栽培床槽之上且贯穿设置有多个种植孔，在该种植孔的下方的所述栽培床槽的底面设置有苗架台，在该苗架台的下表面侧与该栽培床槽的底面之间形成有通气空间，在该苗架台上配置有植物，其特征在于，具备洒水部件，其以将水(营养液)洒到该苗架台上的植物的根或者苗架台的上表面的方式进行喷洒。

在本发明的一个方式中，以使从所述洒水部件喷洒的水(营养液)洒到所述植物的根的方式配置有所述洒水部件。

在本发明的一个方式中，所述洒水部件是洒水管，并且配置于所述苗架台的两侧。

在本发明的一个方式中，所述洒水管沿与所述苗架台平行的方向延伸，该洒水管在其长度方向上隔开间隔地设置有多个洒水孔。