[发明专利]气体分离膜的制造方法有效

专利信息
申请号: 201980031927.2 申请日: 2019-05-15
公开(公告)号: CN112105447B 公开(公告)日: 2022-12-23
发明(设计)人: 小高一利;伊左治忠之;堀内雄史 申请(专利权)人: 日产化学株式会社
主分类号: B01D71/76 分类号: B01D71/76
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 牛蔚然
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 气体 分离 制造 方法
【权利要求书】:

1.气体分离膜的制造方法,所述气体分离膜是微粒均匀地分散于树脂中的气体分离膜,

所述气体分离膜的制造方法包括下述(A)和(B):

工序(A),以微粒的量相对于总质量而言为1质量%~50质量%的方式,将所述微粒与基体树脂在溶解该基体树脂的溶剂中混合,然后通过干燥将溶剂除去而制造母料;和

工序(B),使所述母料溶解于溶剂后涂布于基板,并使溶剂蒸发而得到所述气体分离膜。

2.如权利要求1所述的气体分离膜的制造方法,其中,所述基体树脂为微孔聚合物。

3.如权利要求2所述的气体分离膜的制造方法,其中,所述微孔聚合物为下述结构表示的高分子(PIM-1),

4.如权利要求1所述的气体分离膜的制造方法,其中,所述基体树脂为二甲基聚硅氧烷。

5.如权利要求1所述的气体分离膜的制造方法,其中,所述基体树脂为聚乙烯醇。

6.如权利要求1~5中任一项所述的气体分离膜的制造方法,其中,所述微粒为无机微粒。

7.如权利要求1~5中任一项所述的气体分离膜的制造方法,其中,所述微粒为二氧化硅微粒。

8.如权利要求7所述的气体分离膜的制造方法,其中,所述二氧化硅微粒为经官能团修饰的二氧化硅微粒。

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