[发明专利]清洁和充电站在审
申请号: | 201980032219.0 | 申请日: | 2019-05-15 |
公开(公告)号: | CN112118765A | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | W·施特格曼;B·西科拉;J·克劳斯;U·卢达舍尔 | 申请(专利权)人: | 博朗有限公司 |
主分类号: | A45D27/00 | 分类号: | A45D27/00;A45D27/46;B26B19/38 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 许剑桦 |
地址: | 德国克*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洁 充电站 | ||
1.一种用于电驱动装置的清洁和充电站,所述站包括外部壳体(1),所述外部壳体具有基座部分(2)和从所述基座部分(2)延伸的托架结构(3),所述基座部分(2)具有竖直中心轴线(I)并且包括用于至少部分地接纳所述电驱动装置(5)的清洁室(4),并且所述托架结构(3)包括用于对所述电驱动装置(5)充电的充电端子(8),以及
电路板(12),所述电路板安装在所述壳体(1)内并连接到所述充电端子(8),其特征在于
所述托架结构(3)在所述基座部分(2)上相对于所述竖直中心轴线(I)偏移定位,并且在至少两个方向上相对于所述竖直中心轴线(I)倾斜,
因为所述基座部分(2)具有后侧和相对的后侧,其中所述清洁室(4)被定位成更靠近所述后侧,并且所述托架结构(3)被定位成更靠近所述后侧,其中所述托架结构(3)朝向所述后侧倾斜,并且因为所述基座部分(2)具有底侧和顶侧,所述顶侧相对于所述底侧倾斜,使得所述基座部分(2)的高度在所述后侧处更大并且在所述后侧上更小。
2.根据权利要求1所述的清洁和充电站,其特征在于,所述清洁室、所述托架结构(3)和所述顶侧被设置成相对于对称平面对称,所述对称平面延伸穿过所述托架结构的纵向延伸部。
3.根据权利要求1所述的清洁和充电站,其特征在于,所述托架结构(3)朝向所述后侧倾斜10°至45°,优选20°至30°。
4.根据权利要求1或3中任一项所述的清洁和充电站,其特征在于,所述托架结构(3)朝向横向侧倾斜。
5.根据权利要求4所述的清洁和充电站,其特征在于,所述托架结构(3)朝向横向侧倾斜2°至30°,优选5°至15°。
6.根据权利要求1所述的清洁和充电站,其特征在于,所述托架结构(3)被定位成相对于所述后侧旋转偏移。
7.根据权利要求6所述的清洁和充电站,其特征在于,所述托架结构(3)被定位成相对于所述后侧旋转偏移10°至50°,优选20°至40°。
8.根据前述权利要求中任一项所述的清洁和充电站,其特征在于,所述电路板(12)安装在所述托架结构(3)内并且在所述清洁室(4)上方。
9.根据前述权利要求中任一项所述的清洁和充电站,其特征在于,支撑件(19)被能够拆卸地接纳在所述基座部分(2)中,其中含有清洁流体的刀片架(21)被能够拆卸地接纳在所述支撑件(19)中。
10.根据权利要求1和9所述的清洁和填充站,其特征在于,所述支撑件(19)包括用于接纳所述刀片架(21)的孔口(20),其中所述孔口(20)朝向所述前侧开口。
11.根据前述权利要求中任一项所述的清洁和充电站,其特征在于,所述清洁室(4)具有底部表面,所述底部表面相对于垂直于所述中心竖直轴线(I)的平面倾斜。
12.根据前述权利要求中任一项所述的清洁和充电站,还包括至少一个照明单元,所述至少一个照明单元连接到所述电路板(12)并且具有至少一个发光源(13),所述发光源光学连接到至少一个光漫射元件(16)。
13.根据权利要求12所述的清洁和充电站,其特征在于,所述至少一个光漫射元件(16)为设置在所述托架结构(3)中和/或所述托架结构(3)上的环,优选在所述托架结构(3)背离所述基座部分(2)的端部处。
14.根据前述权利要求中任一项所述的清洁和充电站,其特征在于,用于选择所述清洁和充电站的不同操作模式的选择器(11)连接到所述电路板(12)并设置在所述托架结构(3)中或所述托架结构(3)上。
15.根据前述权利要求中任一项所述的清洁和充电站,其特征在于,用于指示所述清洁和充电站的不同操作模式的显示单元(9)连接到所述电路板(12)并设置在所述托架结构(3)中或所述托架结构(3)上。
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