[发明专利]用于在等离子体增强化学气相沉积腔室中抑制寄生等离子体的设备

权利要求书

1.一种金属屏蔽件，包括：

金属板；

金属空心管，所述金属空心管包括管状壁；以及

冷却剂通道，所述冷却剂通道形成在所述金属板和所述金属中空管的管状壁中，所述冷却剂通道包含：

供应通道，所述供应通道在所述金属板中具有平面螺旋图案且在所述金属中空管的所述管状壁中具有螺旋图案；和

返回通道，所述返回通道在所述金属板中具有平面螺旋图案且在所述金属中空管的所述管状壁中具有螺旋图案，所述供应通道与所述返回通道在所述金属板和所述管状壁中交错。

2.如权利要求1所述的金属屏蔽件，其中所述金属屏蔽件由铝、钼、钛、铍、铜、不锈钢或镍制成。

3.如权利要求1所述的金属屏蔽件，其中所述金属板和所述金属中空管是单件材料。

4.如权利要求1所述的金属屏蔽件，进一步包括形成在所述金属板的表面中的多个最小接触特征。

5.如权利要求4所述的金属屏蔽件，其中所述多个最小接触特征包括多个蓝宝石球，所述多个蓝宝石球部分地嵌入在所述金属板中。

6.一种基板支撑组件，包括：

加热器板；

隔热板，所述隔热板具有面向所述加热器板的表面；

第一多个减小的接触特征，所述第一多个减小的接触特征形成在所述隔热板的所述表面上，所述加热器板与所述第一多个减小的接触特征接触；

金属屏蔽件，所述金属屏蔽件包含金属板和具有金属管状壁的金属中空管，所述金属板包含面向所述隔热板的表面；以及

第二多个减小的接触特征，所述第二多个减小的接触特征形成在所述金属板的所述表面上，所述隔热板与所述第二多个减小的接触特征接触。

7.如权利要求6所述的基板支撑组件，其中所述加热器板由陶瓷材料制成。

8.如权利要求7所述的基板支撑组件，其中所述隔热板由陶瓷材料制成。

9.如权利要求8所述的基板支撑组件，其中所述隔热板由氧化铝或氮化铝制成。

10.如权利要求6所述的基板支撑组件，进一步包括冷却剂通道，所述冷却剂通道形成在所述金属板和所述金属中空管的所述管状壁中，其中所述冷却剂通道包含：

供应通道，所述供应通道在所述金属板中具有平面螺旋图案且在所述金属中空管的所述管状壁中具有螺旋图案；以及

返回通道，所述返回通道在所述金属板中具有平面螺旋图案且在所述金属中空管的所述管状壁中具有螺旋图案，所述供应通道与所述返回通道在所述金属板和所述管状壁中交错。

11.一种处理腔室，包括：

腔室壁；

底部；

气体分配板；以及

基板支撑组件，所述基板支撑组件包含：

加热器板；

隔热板，所述隔热板具有面向所述加热器板的表面；

第一多个减小的接触特征，所述第一多个减小的接触特征形成在所述隔热板的所述表面上，所述加热器板与所述第一多个减小的接触特征接触；

金属屏蔽件，所述金属屏蔽件包含金属板和具有金属管状壁的金属中空管，所述金属板包含面向所述隔热板的表面；和

第二多个减小的接触特征，所述第二多个减小的接触特征在所述金属板的所述表面上形成，所述隔热板与所述第二多个减小的接触特征接触。

12.如权利要求11所述的处理腔室，进一步包括加热组件，所述加热组件嵌入在所述加热器板中。

13.如权利要求11所述的处理腔室，其中所述金属屏蔽件由铝制成。

14.如权利要求11所述的处理腔室，其中所述第二多个减小的接触特征包括多个蓝宝石球，所述多个蓝宝石球部分地嵌入在所述金属板中。

15.如权利要求13所述的处理腔室，进一步包括冷却剂通道，所述冷却剂通道形成在所述金属板和所述金属中空管的所述管状壁中，其中所述冷却剂通道包含：

供应通道，所述供应通道在所述金属板中具有平面螺旋图案且在所述金属中空管的所述管状壁中具有螺旋图案；以及

返回通道，所述返回通道在所述金属板中具有平面螺旋图案且在所述金属中空管的所述管状壁中具有螺旋图案，所述供应通道与所述返回通道在所述金属板和所述管状壁中交错。