[发明专利]视觉上未失真的薄膜电子装置

权利要求书

1.一种用于生产薄膜电子装置的方法，所述方法包括：

在沉积在衬底上的薄膜材料层的叠层中打开划线，以定义所述薄膜电子装置的有源区域和非有源区域，其中所述薄膜材料层的叠层包括至少一个有源半导体层，其中所述有源区域包括所述薄膜材料层的叠层的未划线区域，其中所述非有源区域包括所述薄膜材料层的叠层中薄膜材料被所述划线去除的区域；

将至少一种划线填充材料沉积到由所述划线打开的间隙中，其中所述划线填充材料具有嵌入其中的一种或多种着色元素，其中所述一种或多种着色元素使得所述非有源区域的光学特性光谱获得所述有源区域的光学特性光谱的行业定义的标准观测器的最小可感知差异。

2.根据权利要求1所述的方法，其还包括：

确定多个着色元素输入样品的强度光谱；

确定从所述薄膜材料层的叠层中去除的所述薄膜材料的强度光谱；

确定所述多个着色元素输入样品的比率以产生划线填充材料油墨，其中所述比率为从所述薄膜材料层的叠层中去除的所述薄膜材料提供所述强度光谱的最佳拟合估计；以及

基于目标膜厚度，调整存在于所述划线填充材料油墨中的所述多种着色元素的总浓度；

其中将所述至少一种划线填充材料沉积到所述间隙中包括沉积所述划线填充材料油墨。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述非有源区域的所述光学特性光谱获得在ΔE2000≤3内的所述有源区域的所述光学特性光谱。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述衬底相对于可见光为透明的或不透明的。

5.根据权利要求1所述的方法，其还包括：

在沉积所述至少一种划线填充材料之后应用沉积后工艺，其中所述沉积后工艺使得所述划线填充材料的所述光谱质量发生变化，以获得所述有源区域的光学特性光谱的行业定义的标准观测器的最小可感知差异。

6.根据权利要求1所述的方法，其还包括：

确定所述有源区域中所述薄膜材料层的叠层的基线光学特性光谱；

在将所述至少一种划线填充材料沉积到由所述划线打开的所述间隙中之前，确定保留在所述非有源区域中的薄膜材料的光学特性光谱；

确定所述基线光学特性光谱和保留在所述非有源区域中的所述薄膜材料的所述光学特性光谱之间的差异；以及

根据所述差异选择所述一种或多种着色元素。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述一种或多种着色元素以驱动所述划线填充材料的光学特性光谱的比率来选择，以获得通过打开所述划线而去除的所述材料的光学特性光谱。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述一种或多种着色元素包括与包括在所述至少一个有源半导体层中的相同半导体材料的样品。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一种划线填充材料包括陶瓷。

10.根据权利要求1所述的方法，其中沉积所述至少一种划线填充材料包括以下中的一种：

制造电气单片互连件的至少一部分，或

制造边缘隔离密封件的至少一部分。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述至少一个有源半导体层包括有机光伏半导体吸收层。