[发明专利]包含溶剂混合物的组合物用于处理图案化材料时避免图案坍塌的用途

权利要求书

1.包含2-丙醇和乙酸乙酯的组合物用于处理包括具有50nm或更小的线-空间尺寸和4或更大的纵横比的图案的衬底的用途，其特征在于：其中2-丙醇以15-35重量％的量存在，乙酸乙酯以65-85重量％的量存在。

2.根据权利要求1所述的用途，其中2-丙醇以20-30重量％的量存在，乙酸乙酯以70-80重量％的量存在。

3.根据权利要求1或2所述的用途，其中所述组合物由2-丙醇和乙酸乙酯组成。

4.一种制造集成电路器件、光学器件、微机械和机械精密器件的方法，所述方法包括以下步骤：

(1)提供具有图案化材料层的衬底，所述图案化材料层具有50nm或更小的线-空间尺寸、大于或等于4的纵横比，或其组合，

(2)使衬底与冲洗组合物接触至少一次，和

(3)从与衬底的接触中移除组合物，

其中所述冲洗组合物包含15-35重量％的2-丙醇，65-85重量％的乙酸乙酯。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述图案化材料层具有32nm及更小的线-空间尺寸和4或更大的纵横比。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述图案化材料层选自图案化显影光致抗蚀剂层、图案化阻挡材料层、图案化多堆叠材料层和图案化介电材料层。

7.根据权利要求5所述的方法，其中所述图案化材料层选自图案化显影光致抗蚀剂层、图案化阻挡材料层、图案化多堆叠材料层和图案化介电材料层。

8.根据权利要求4-7中任一项所述的方法，其中具有图案化材料层的衬底通过光刻方法提供，所述图案化材料层具有50nm或更小的线-空间尺寸、大于或等于4的纵横比，或其组合，所述光刻方法包括以下步骤：

(i)提供具有浸没光致抗蚀剂、EUV光致抗蚀剂或电子束光致抗蚀剂的衬底，

(ii)在有或没有浸没液体的情况下通过掩模将光致抗蚀剂层曝光于光化辐射，

(iii)用显影剂溶液显影曝光的光致抗蚀剂层以获得具有50nm及更小的线-空间尺寸和4或更大的纵横比的图案。