[发明专利]光学标记装置有效
申请号: | 201980033675.7 | 申请日: | 2019-04-19 |
公开(公告)号: | CN112154072B8 | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 科西莫·普雷泰;杰雷米·马林盖;戈蒂埃·阿洛伊兹 | 申请(专利权)人: | 克里姆科学技术公司 |
主分类号: | B42D25/387 | 分类号: | B42D25/387;B42D25/391;B42D25/45;B42D25/351;B42D25/364;B42D25/373;C09K11/06 |
代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 南霆;李有财 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 标记 装置 | ||
1.光学标记装置,其包括至少一个第一层(2)和第二层(3),所述第一层(2)和所述第二层(3)至少彼此部分地相对安置,所述第一层(2)和所述第二层(3)中的至少一层包括光变元件(4,5),所述光变元件(4,5)显示第一颜色与第二颜色之间的颜色变化,所述第一颜色和所述第二颜色相对于另一层的颜色形成对比,使得当所述光变元件(4,5)显示所述第一颜色时,所述第一层(2)可见,并且当所述光变元件(4,5)显示所述第二颜色时,所述第二层(3)可见,或者当所述光变元件(4,5)显示所述第一颜色时,所述第二层(3)可见,并且当所述光变元件(4,5)显示所述第二颜色时,所述第一层(2)可见,且其中,所述光变元件(4,5)包括一种或多种4,4-二氟-4-硼-3a,4a-二氮杂-对称引达省类荧光化合物和/或一种或多种β-二酮二氟化硼类荧光化合物。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一层(2)和所述第二层(3)中的至少一层包括设置有所述光变元件(4,5)的设计(9,10)。
3.根据权利要求1所述的装置,其包括承载所述第一层(2)和所述第二层(3)中的至少一层的衬底(11)。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一层(2)和所述第二层(3)彼此接触。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一层(2)和所述第二层(3)中的至少一层在可见光谱中至少部分反射和/或具有灰色阴影。
6.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一层(2)和所述第二层(3)中的至少一层在可见光谱中至少部分漫射。
7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述一种或多种4,4-二氟-4-硼-3a,4a-二氮杂-对称引达省类荧光 化合物选自式I的化合物:
其中
R1是C1到C6烷基、C5到C6环烷基、C5到C6杂烷基、苯基,所述苯基任选地被选自C1到C2烷基、羟基、R5COO-和卤素的一个或多个基团取代;
R2和R2'独立地选自氢和C1到C2烷基;
R3和R3'独立地选自氢、芳基、杂芳基、环烷基、烷基、烯基、炔基,所述芳基、所述杂芳基、所述环烷基、所述烷基、所述烯基和所述炔基任选地被选自C1到C4烷基、芳基、羟基和二茂铁的一个或多个基团取代,所述芳基任选地被选自芳基、C1到C2烷基、卤素、羟基、二甲氨基、硝基的一个或多个基团取代,所述芳基任选地被C1到C2烷基取代;
R4和R4'独立地选自芳基、杂芳基、环烷基、烷基、烯基,所述芳基、所述杂芳基、所述环烷基、所述烷基和所述烯基任选地被选自C1到C3烷基、芳基、羟基和二茂铁的一个或多个基团取代,所述芳基任选地被选自芳基、C1到C2烷基、卤素、羟基、二甲氨基、硝基的一个或多个基团取代,所述芳基任选地被C1到C2烷基取代;
R5是C1到C4烷基或C2到C4烯基;
R6和R6'独立地选自卤素、C1到C4烷氧基、C2到C4烯氧基、C1到C4烷基、C2到C4烯基或芳基,所述芳基任选地被选自C1到C2烷基、羟基、R5COO-和卤素的一个或多个基团取代。
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