[发明专利]用于确定标记检测系统中的测量束的期望波长带宽的带宽计算系统和方法有效

专利信息
申请号: 201980034022.0 申请日: 2019-05-02
公开(公告)号: CN112166384B 公开(公告)日: 2023-05-23
发明(设计)人: 王甲;J·F·F·克林坎梅尔;李华 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 胡良均
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 确定 标记 检测 系统 中的 测量 期望 波长 带宽 计算 方法
【权利要求书】:

1.一种用于确定标记检测系统中的测量束的期望波长带宽的带宽计算系统,所述标记检测系统用于检测对象上或对象中存在的标记,所述带宽计算系统包括:

处理单元,被配置为通过如下操作来基于标记几何形状信息确定所述期望波长带宽,所述标记几何形状信息包括表示标记的深度的标记深度信息:

基于所述标记深度信息确定标记检测误差函数的周期和/或方差参数,所述标记检测误差函数表示作为所述测量束的所述波长的函数的、所述标记的实际位置与所述标记的确定位置之间的差异,以及

分别基于所述周期和/或所述方差参数确定所述期望波长带宽。

2.根据权利要求1所述的带宽计算系统,其中所述处理单元被配置为基于所述标记几何形状信息确定包括所述测量束的分量的反射束的反射光信号强度,并且基于所述反射光信号强度确定所述期望波长带宽。

3.根据权利要求1或2所述的带宽计算系统,其中

所述对象是衬底,

所述标记深度信息表示所述测量束被配置为从所述标记的顶表面传播到底反射界面的距离。

4.根据权利要求3所述的带宽计算系统,其中所述距离乘以所述测量束从所述顶表面传播到所述底反射界面所通过的材料的折射率大于1μm。

5.一种用于检测对象上或对象中存在的标记的标记检测系统,包括:

根据权利要求1至4中的任一项所述的带宽计算系统,

辐射单元,包括:被配置为容纳辐射源的辐射源保持器、以及被配置为控制所述辐射源的控制单元,所述辐射源被配置为朝向所述标记发射测量束,所述测量束包括在具有基于所述期望波长带宽的选定宽度的波长带宽内的辐射,以及

检测单元,包括:

检测器,被配置为检测反射束,所述反射束包括所述测量束的被所述标记反射的分量,以及

处理单元,被配置为基于由所述检测器检测的反射束来确定所述标记的位置。

6.根据权利要求5所述的标记检测系统,还包括所述辐射源,其中所述测量束的所述波长带宽的所述选定宽度在10nm至100nm之间。

7.根据权利要求6所述的标记检测系统,其中所述测量束的所述波长带宽的所述选定宽度在15nm至80nm之间。

8.根据权利要求6所述的标记检测系统,其中所述测量束的所述波长带宽的所述选定宽度在20nm至70nm之间。

9.根据权利要求6所述的标记检测系统,其中所述测量束的所述波长带宽的所述选定宽度在20nm至40nm之间。

10.根据权利要求6所述的标记检测系统,其中所述测量束的所述波长带宽的所述选定宽度在35nm至55nm之间。

11.一种用于检测对象上或对象中存在的标记的标记检测系统,包括:

根据权利要求1至4中的任一项所述的带宽计算系统,

辐射单元,包括:

辐射源保持器,

辐射源,被布置在所述辐射源保持器中,被配置为朝向所述标记发射包括在具有选定宽度的波长带宽中的辐射的测量束,以及

控制单元,被配置为控制所述辐射源,

检测单元,包括:

检测器,被配置为检测反射束,所述反射束包括所述测量束的、被所述标记反射的分量,以及

处理单元,被配置为基于由所述检测器检测的所述反射束来确定所述标记的位置,

其中所述波长带宽的所述选定宽度在10nm至100nm之间。

12.根据权利要求11所述的标记检测系统,其中所述波长带宽的所述选定宽度在15nm至80nm之间。

13.根据权利要求11所述的标记检测系统,其中所述波长带宽的所述选定宽度在20nm至70nm之间。

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