[发明专利]带图案膜基板的制造方法及含氟共聚物

权利要求书

1.一种带图案膜基板的制造方法，其包含：

对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板是在基板上形成有具有图案的图案膜的带图案膜基板，所述图案膜含有含氟共聚物，所述含氟共聚物同时含有式(A)所示的重复单元及式(C)所示的重复单元；及

加热所述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序，

[化学式1]

式中，R¹、R³各自独立地为氢原子、氟原子或碳原子数1～20的烷基，该烷基中的与碳原子键合的氢原子的一部分或全部任选被氟原子取代；Q为碳原子数1～20的氟烷基，其任选具有氢原子、氧原子或氮原子；X为单键或2价基团；Z为碳原子数1～20的烷基、碳原子数2～20的烯基、碳原子数2～20的炔基、碳原子数6～20的苯基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的烷基羰氧基或羧基，这些基团所具有的氢原子任选被氟原子、氧原子或氮原子取代；O为氧原子。

2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述含氟共聚物同时含有式(A)所示的重复单元、式(B)所示的重复单元及式(C)所示的重复单元，

[化学式2]

式中，R¹、R²、R³各自独立地为氢原子、氟原子或碳原子数1～20的烷基，该烷基中的与碳原子键合的氢原子的一部分或全部任选被氟原子取代；Q为碳原子数1～20的氟烷基，其任选具有氢原子、氧原子或氮原子；X及Y各自独立地为单键或2价基团；Z为碳原子数1～20的烷基、碳原子数2～20的烯基、碳原子数2～20的炔基、碳原子数6～20的苯基、碳原子数1～20的烷氧基、碳原子数1～20的烷基羰氧基或羧基，这些基团所具有的氢原子任选被氟原子、氧原子或氮原子取代；O为氧原子、H为氢原子。

3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，在所述加热工序中，以50℃以上、350℃以下的温度将所述第一带图案膜基板加热10秒以上。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的制造方法，其中，所述第二带图案膜基板是用于以喷墨法形成显示元件的基板。

5.根据权利要求1～4中任意一项所述的制造方法，其中，所述式(A)所示的重复单元中的Q为碳原子数3～10的氟烷基、X为羰基。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，所述式(A)所示的重复单元中的Q为全氟己基乙基、X为羰基。

7.根据权利要求5所述的制造方法，其中，所述式(A)所示的重复单元中的Q为六氟异丙基、X为羰基。

8.根据权利要求1～4中任意一项所述的制造方法，其中，所述式(A)所示的重复单元为式(A-1)所示的重复单元，

[化学式3]

式(A-1)中，R⁴、R⁵各自独立地为氢原子、氟原子或碳原子数1～3的烷基，该烷基中的与碳原子键合的氢原子的一部分或全部任选被氟原子取代；O为氧原子、H为氢原子、F为氟原子。

9.根据权利要求2～4中任意一项所述的制造方法，其中，所述式(A)所示的重复单元所具有的Q为六氟异丙基、X为羰基；所述式(B)所示的重复单元所具有的Y为对亚苯基或羧基亚乙基。

10.根据权利要求2～4中任意一项所述的制造方法，其中，所述式(A)所示的重复单元所具有的Q为六氟异丙基、X为羰基；所述式(B)所示的重复单元所具有的Y为对亚苯基或羧基亚乙基；所述式(C)所示的重复单元所具有的Z为烷氧基、羧基、乙酰氧基或双三氟甲基乙烯基。

11.根据权利要求2～4中任意一项所述的制造方法，其中，所述式(C)所示的重复单元所具有的Z为双三氟甲基乙烯基。