[发明专利]树脂层压光学体和光源单元以及它们的制造方法、光学单元、光照射装置、图像显示装置在审
申请号: | 201980035085.8 | 申请日: | 2019-05-16 |
公开(公告)号: | CN112424649A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 田泽洋志;有马光雄;佐佐木浩司 | 申请(专利权)人: | 迪睿合株式会社 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;B29C59/02;F21V5/00;G02B1/118;G02B3/00;G02B5/18;G02B17/00;G02B17/08 |
代理公司: | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人: | 刘昕;孟祥海 |
地址: | 日本国东京都品川区大崎*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 树脂 层压 光学 光源 单元 以及 它们 制造 方法 照射 装置 图像 显示装置 | ||
1.一种树脂层压光学体,其特征在于,具备:
光学基材,其具有曲面;以及
树脂层,其设置在所述光学基材的曲面上,
并且在所述树脂层的表面上形成有光扩散结构。
2.根据权利要求1所述的树脂层压光学体,其特征在于,
所述光扩散结构包括微细凹凸结构,
用于构成所述微细凹凸结构的微细凹部之间的平均间隔或者微细凸部之间的平均间隔为1~150μm。
3.根据权利要求2所述的树脂层压光学体,其特征在于,
邻接的所述微细凹部与所述微细凸部之间的高低差为0.5~50μm。
4.一种光源单元,具备:
光源;
光学基材,其内置有所述光源;以及
树脂层,其设置在所述光学基材的发光面上,
并且在所述树脂层的表面上形成有微细凹凸结构。
5.根据权利要求4所述的光源单元,其特征在于,
所述微细凹凸结构包括蛾眼结构、光扩散结构、微透镜阵列结构或者衍射光栅结构中的至少任意一种。
6.根据权利要求5所述的光源单元,其特征在于,
所述微细凹凸结构包括所述蛾眼结构,
并且用于构成所述微细凹凸结构的微细凹部之间的平均间隔或者微细凸部之间的平均间隔为50nm~400nm。
7.根据权利要求5或6所述的光源单元,其特征在于,
所述微细凹凸结构包括所述蛾眼结构,并且邻接的微细凹部与微细凸部之间的高低差为100~500nm。
8.一种光学单元,其特征在于,
包含权利要求1~3的任一项所述的树脂层压光学体或者权利要求4~7的任一项所述的光源单元中的至少一个。
9.一种光照射装置,其特征在于,
包含权利要求8所述的光学单元。
10.一种图像显示装置,其特征在于,
包含权利要求9所述的光照射装置。
11.一种树脂层压光学体的制造方法,其特征在于,包括:
第一工序,其用于准备具有曲面的光学基材;
第二工序,其用于在所述光学基材的曲面上形成未固化树脂层;
第三工序,其用于准备在表面上形成有光扩散结构的反转结构并具有可挠性的可挠性原盘;
第四工序,其用于使所述可挠性原盘贴近所述未固化树脂层;
第五工序,其用于向所述可挠性原盘施加印刷压力而使所述可挠性原盘变形并将所述可挠性原盘的所述反转结构推压在所述未固化树脂层上;以及
第六工序,其用于在将所述可挠性原盘的所述反转结构推压在所述未固化树脂层上的状态下,使所述未固化树脂层固化而在所述光学基材的曲面上形成树脂层。
12.根据权利要求11所述的树脂层压光学体的制造方法,其特征在于,
所述光扩散结构包括微细凹凸结构,
并且用于构成所述微细凹凸结构的微细凹部之间的平均间隔或者微细凸部之间的平均间隔为1~150μm。
13.根据权利要求12所述的树脂层压光学体的制造方法,其特征在于,
邻接的所述微细凹部与所述微细凸部之间的高低差为0.5~50μm。
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