[发明专利]近井眼地层损害的化学处理方案在审

专利信息
申请号: 201980035256.7 申请日: 2019-03-19
公开(公告)号: CN112543797A 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 沈伟和;陈家豪;陈玉宏 申请(专利权)人: 施化技术有限公司
主分类号: C09K8/524 分类号: C09K8/524
代理公司: 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 代理人: 田明;祝倩
地址: 马来西亚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 近井眼 地层 损害 化学 处理 方案
【权利要求书】:

1.一种用于处理近井眼地层损害的乳液组合物,包括:

占总组合物重量0.5%至40%的水相;

占总组合物重量15%至90%的非水相;

占总组合物重量2%至60%的表面活性剂;

以及占总组合物重量的1%到30%的一种化合物,其化学结构如I所示,

(化学结构I)R1-CONH-[R2-NH-R3]n-HNOC-R4

其中,R1、R2、R3和R4是具有2到26个碳原子的直链、支链或芳香碳取代基,并且n是1到100之间的整数,其中每个取代基包括烷基、羰基、羧基、胺基或酰胺基。

2.根据权利要求1所述的组合物,其进一步包含占总组合物重量百分比为1至30%的助表面活性剂,助表面活性剂选自C3至C18醇、C3至C18烷基乳酸、卵磷脂、C3至C18脂肪酸、烷二醇、氨基酸和其任何衍生混合物。

3.根据权利要求1或2所述的组合物,其中所述非水相是萜烯、芳香烃、二醇、酯、脂肪酸酯、脂肪酯、乙二醇醚、矿物油、石蜡油、植物油、柴油和石油馏分中的任何一种或多种。

4.根据权利要求1或2所述的组合物,其中所述表面活性剂选自非离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂或其任何组合。

5.根据权利要求1或2所述的组合物,其进一步包含占总组合物重量1%至5%的缓蚀剂,选自磷酸酯、羧酸胺盐、聚羧酸胺盐、季铵盐、季亚胺盐,酰胺基胺、咪唑啉、酰胺、羟基胺、多羟基酰胺、乙氧基化胺、乙氧基酰胺、聚酰胺酸及其衍生的任何组合。

6.根据权利要求1或2所述的组合物,其进一步包含占总组合物重量5%至40%的降凝剂,所述降凝剂选自乙烯/烯烃共聚物、乙烯/醋酸乙烯共聚物、乙烯-丙烯腈共聚物、丙烯酸酯聚合物、甲基丙烯酸酯聚合物、马来酸共聚物、烷基酚醛树脂,六羧基乙醇油酸酯、聚烯烃及其衍生的任何组合。

7.如权利要求1或2所述的组合物,其进一步包含螯合剂,占总组合物重量的1至25%,选自乙二胺四乙酸、羟基乙二胺三乙酸、硝基三乙酸、柠檬酸、乙酰丙酮、卟啉、邻苯二酚、二硫代膦酸及其盐,聚磷酸盐、磷酸酯、非聚膦酸盐、氨基膦酸盐、聚膦酸膦聚合物、聚膦酸酯、聚羧酸盐、聚磺酸酯及其衍生的任何组合。

8.如权利要求1或2的组合物,其进一步包含杀生物剂,占总组合物重量的1至5%,选自氯/次氯酸盐或溴/次氯酸盐、次氯酸盐、次溴酸盐、稳定氯化溴、羟基自由基、氯胺、二氧化氯、氯异氰尿酸盐,含卤素的乙内酰脲、过氧化氢、过氧乙酸及其衍生的任何组合。

9.根据权利要求2所述的组合物,其中所述表面活性剂和所述助表面活性剂以20:1到1:20的比例存在。

10.一种用于处理近井眼地层损害的化合物,包括:

化学结构I R1-CONH-[R2-NH-R3]n-HNOC-R4

其中,R1、R2、R3和R4是具有2到26个碳原子的直链、支链或芳香碳取代基,并且n是1到100之间的整数,其中每个取代基包括烷基、羰基、羧基、胺基或酰胺基。

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