[发明专利]化合物、树脂、组合物、抗蚀图案形成方法、电路图案形成方法和树脂的纯化方法在审
申请号: | 201980035577.7 | 申请日: | 2019-05-27 |
公开(公告)号: | CN112218844A | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
发明(设计)人: | 堀内淳矢;冈田悠;牧野岛高史;越后雅敏 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C07C39/15 | 分类号: | C07C39/15;C07C39/367;C07C49/83;C08G8/04;G03F7/11;G03F7/20;G03F7/26 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化合物 树脂 组合 图案 形成 方法 电路 纯化 | ||
1.一种化合物,其由下述式(1)表示,
式(1)中,
A为碳数1~12的基团,
R1为碳数1~30的2n价的基团,
R2~R5各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数1~10的烷氧基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,
R4中的至少一者和/或R5中的至少一者为羟基和/或巯基,
m2和m3各自独立地为0~8的整数,
m4和m5各自独立地为0~9的整数,
n为1~4的整数,
p2~p5各自独立地为0~2的整数。
2.根据权利要求1所述的化合物,其中,所述式(1)中,R2中的至少一者和/或R3中的至少一者为羟基和/或巯基。
3.根据权利要求1或2所述的化合物,其中,所述式(1)所示的化合物为下述式(1a)所示的化合物,
式(1a)中,
A、R2~R5和n分别如所述式(1)中所定义,
R1a为氢原子或碳数1~10的1价的基团,
R1b为碳数1~25的n价的基团,
m2和m3各自独立地为0~4的整数,
m4和m5各自独立地为0~5的整数。
4.根据权利要求3所述的化合物,其中,所述式(1a)所示的化合物为下述式(1b)所示的化合物,
式(1b)中,
A、R4、R5、R1a、R1b、m4、m5和n分别如所述式(1a)中所定义,
R6和R7各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,
m6和m7各自独立地为0~3的整数,
R10和R11为氢原子。
5.根据权利要求4所述的化合物,其中,所述式(1b)所示的化合物为下述式(1c)所示的化合物,
式(1c)中,
A、R1a、R1b、R6、R7、R10、R11、m6、m7和n分别如所述式(1b)中所定义,
R8和R9各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,
m8和m9各自独立地为0~4的整数,
R12和R13为氢原子。
6.一种树脂,其具有源自权利要求1~5中任一项所述的化合物的结构单元。
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