[发明专利]成像装置在审

专利信息
申请号: 201980036840.4 申请日: 2019-05-24
公开(公告)号: CN112204446A 公开(公告)日: 2021-01-08
发明(设计)人: 新屋公启;山本笃志 申请(专利权)人: 索尼半导体解决方案公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B1/113;G02B1/118;G02B13/18;G03B17/02;H01L27/146;G02B7/02;H04N5/225;H04N5/357;H04N5/369
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 梁兴龙;曹正建
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 成像 装置
【权利要求书】:

1.一种成像装置,包括:

固态成像元件,其根据入射光的光量通过光电转换产生像素信号;和

透镜组,其包括多个透镜并且将入射光聚焦在所述固态成像元件的光接收面上,其中

包括在所述透镜组中并且相对于入射光的入射方向构成最下层的最下层透镜设置在接收入射光的方向上的最前段,和

所述最下层透镜是非球面的凹型透镜,在所述最下层透镜的表面上形成有防反射膜。

2.根据权利要求1所述的成像装置,其中

在所述最下层透镜中限定有用于将入射光会聚在所述固态成像元件上的有效区域,和

所述防反射膜形成在至少所述最下层透镜的有效区域上。

3.根据权利要求2所述的成像装置,其中

所述有效区域配置在所述最下层透镜的在垂直于入射光的方向上的宽度的大致中央,不必须将入射光会聚在所述固态成像元件上的非有效区域形成在所述有效区域的外周部,和

在所述防反射膜形成在所述非有效区域、所述最下层透镜的侧面和设置在所述固态成像元件上的玻璃基板上的情况下,至少部分地设置有未形成防反射膜的区域,所述最下层透镜被贴附到所述玻璃基板上。

4.根据权利要求3所述的成像装置,其中所述有效区域的宽度、所述非有效区域的宽度、露出所述玻璃基板的区域的宽度和限定划线的区域的宽度具有以下关系:所述有效区域的宽度所述非有效区域的宽度露出所述玻璃基板的区域的宽度限定划线的区域的宽度。

5.根据权利要求3所述的成像装置,其中

具有堤部形状并包括平面部的突出部形成在所述非有效区域上,所述突出部从所述玻璃基板开始的厚度大于所述最下层透镜的最大厚度,和

所述防反射膜形成在所述突出部的一部分上。

6.根据权利要求5所述的成像装置,其中所述防反射膜形成在所述突出部的有效区域侧的侧面和所述平面部上。

7.根据权利要求6所述的成像装置,其中所述防反射膜形成在所述突出部的有效区域侧的侧面、所述平面部以及从所述突出部的外周侧侧面的平面部开始直到预定高度的区域上。

8.根据权利要求7所述的成像装置,其中所述防反射膜形成在所述最下层透镜和所述玻璃基板之间的边界附近。

9.根据权利要求1所述的成像装置,其中所述最下层透镜的外周部具有多段侧面。

10.根据权利要求1所述的成像装置,其中所述固态成像元件具有层叠的非空腔结构。

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