[发明专利]用于流化装置的入流基底

说明书

本发明涉及一种对于工艺空气来说可通过的入流基底（2），其具有用于流过入流基底（2）的工艺空气的开口（18），其中入流基底（2）围绕流化装置（1）的轴线Z可转动地布置在流化装置（1）中并且将流化装置划分为分配腔（19）和涡流腔（3），其特征在于，流化装置（1）的入流基底（2）具有至少一个第一和第二入流基底板（12a、12b、12c），其中所述入流基底板（12a、12b、12c）中的一个入流基底板在其外部的端部（17）上具有或构造出密封元件（16）。

技术领域

本发明涉及一种对于工艺空气来说可通过的入流基底，其具有用于流过入流基底的工艺空气的开口，其中入流基底围绕流化装置的轴线可转动地布置在流化装置中并且将流化装置划分为分配腔和涡流腔。

背景技术

入流基底对于流化装置、尤其经典的涡流层装置来说已经是现有技术。在两个国际专利申请WO 2014/161525 A2和WO 2014/117577 A1中公开了连续工作的涡流层装置，其中入流基底可转动地布置在涡流层装置中。迄今为止，在尤其连续运行的流化装置中，可转动的入流基底在一定程度上精确地制成，从而在入流基底和流化装置的外壁之间出现的环形间隙具有最小的间隙宽度。根据迷宫原理作用的密封机构是需要的，因为否则工艺空气不会流过入流基底的开口，而是流过之前提到的在入流基底和流化装置的外壁之间的环形间隙。

在现有技术中示出的技术解决方案中不利的是，所述解决方案在制造流化装置的各个构件时、基于尤其入流基底和流化装置的与入流基底相邻的外壁的很小的制造公差而需要高的制造费用和大的精密性，而不用在足够的程度中密封出现的环形间隙。此外，迄今为止使用的密封机构具有以下缺点，即该密封机构示出构件的非常高的磨损。

发明内容

因此，本发明的任务在于，提供用于流化装置的入流基底，该入流基底更好地密封入流基底和流化装置的外壁之间的环形间隙，并且因此克服现有技术的缺点。

该任务在对于工艺空气来说可通过的入流基底中以如下方式解决，即流化装置的入流基底具有至少一个第一和第二入流基底板，所述入流基底板中的一个入流基底板在其外部的端部上具有或构造出密封元件。有利地，通过根据本发明的入流基底实现最佳地密封入流基底或入流基底板的外部的端部和流化装置的外壁的内壁之间的环形间隙。此外，通过更好地密封环形间隙而实现的是，与现有技术相比更多的工艺空气流过入流基底本身，由此改进待处理的材料、尤其待处理的颗粒或粒子的流化。此外可能的是，在制造入流基底或入流基底的各个入流基底板时，基于与流化装置的常规的入流基底相比更大的制造公差，简化了各个构件的制造，并且因此进一步优化了制造过程。此外有利地，可以有利地将其他的构件、例如能够将待处理的材料简单地运输到流化装置中的构件连接到流化装置上。

优选地，流化装置的入流基底包括三个入流基底板。按照根据本发明的入流基底的优选的实施方式，最下方的入流基底板（其也被称为入流基底的下基底）具有两个功能：一方面，入流基底的大多由钢或不锈钢制成的最下方的入流基底板用作针对中间的入流基底板的支架，即中间的入流基底板布置在下方的入流基底板上，并且与其连接，另一方面，优选由PTFE或与其类似的材料制成的中间的入流基底板通过下基底稳定。上方的入流基底板相反地具有加重中间的入流基底板的功能，从而中间的入流基底板不会被流过入流基底的工艺空气抬升和分离，并且工艺空气在入流基底板旁边流过，而是工艺空气流过根据本发明的入流基底的所有三个入流基底板。

特别优选地，密封元件布置或构造在其中一个入流基底板的外部的端部上的周边的范围内。围绕入流基底板中的一个入流基底板的整个周边布置的密封元件改进入流基底相对于流化装置的外壁的密封。