[发明专利]静电吸盘及其制造方法

权利要求书

1.一种静电吸盘，所述静电吸盘是烧结体，在所述烧结体中浸有电极以通过静电力固定半导体晶片，并且

所述静电吸盘包括：氧化铝；作为烧结助剂的氧化镁(MgO)；和包含3至5种不同的稀土金属的稀土复合氧化物，并且

所述氧化铝的含量基于所述烧结体的总重量为90重量％至99重量％，并且

所述稀土复合氧化物的含量基于所述烧结体的总重量为大于0重量％且1重量％以下，并且

所述静电吸盘具有2秒以下的半导体晶片的吸附和解吸响应特性，并且室温下的体积电阻率为1.0×10¹⁶Ω·cm至1.0×10¹⁷Ω·cm，并且

所述稀土复合氧化物选自由以下物质组成的组：包含三种不同的稀土金属的复合氧化物，其选自由钐-铈-铕复合氧化物(SmCeEuO_X)、钆-铈-镧复合氧化物(GdCeLaO_X)和铕-钆-钐复合氧化物(EuGdSmO_X)组成的组；包含四种不同稀土金属的复合氧化物，其是钐-铈-钆-铕复合氧化物(SmCeGdEuO_X)或钆-钐-铕-镧复合氧化物(GdSmEuLaO_X)；和包含五种不同稀土金属的复合氧化物，其是钐-铈-铕-钆-镧复合氧化物(SmCeEuGdLaO_X)，并且

所述稀土复合氧化物包含重量比为1～3.5:0.5～2.5:1的三种稀土金属氧化物、重量比为1.5～3.5:0.5～2.5:1～2.5:1的四种稀土金属氧化物，或重量比为1～3:0.5～1.5:0.5～1.5:1～2:1的五种稀土金属氧化物。

2.如权利要求1所述的静电吸盘，其中，所述静电吸盘的漏电流量小于0.08μA。

3.如权利要求1所述的静电吸盘，其中，所述烧结助剂的含量基于所述烧结体的总重量为大于0重量％且9重量％以下。

4.一种制造权利要求1至3中任一项所述的静电吸盘的方法，其包括以下步骤：

a)在研磨下将三种以上不同的稀土金属氧化物粉末和溶剂湿混合，然后将其干燥、造粒和热处理，从而制备含有3至5种不同的稀土金属的稀土复合氧化物；

b)向制得的稀土复合氧化物中提供氧化铝、烧结助剂、醇和粘合剂，然后将它们混合；

c)将步骤b)中的混合物干燥以去除醇组分；

d)将经干燥的混合物成型并加工以制成预成型体；

e)对所述预成型体进行脱脂以去除粘合剂组分；和

f)将经脱脂的预成型体烧结，然后抛光。

5.如权利要求4所述的制造静电吸盘的方法，其中，所述粘合剂为聚乙烯醇(PVA)或聚乙烯醇缩丁醛(PVB)。

6.如权利要求4所述的制造静电吸盘的方法，其中，所述稀土复合氧化物、所述氧化铝和所述烧结助剂为粉末相。