[发明专利]增材制造装置、系统和方法有效
申请号: | 201980037625.6 | 申请日: | 2019-04-05 |
公开(公告)号: | CN112218735B | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 弗雷德里克·克内克特;迈克尔·G·利特尔 | 申请(专利权)人: | 帕克西斯有限责任公司 |
主分类号: | B23K26/04 | 分类号: | B23K26/04;B23K26/34 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 易皎鹤 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 装置 系统 方法 | ||
1.一种构造成用逐层技术使用树脂在构建平台上生产三维物体的沉积机构,其中邻近所述构建平台限定构建区域,所述沉积机构包括:
构造成移动通过所述构建区域的滑架;
安装在所述滑架上的可流动形式的树脂供给,所述树脂供给包括被构造成含有树脂的供应桶;
与所述供应桶连通并且可旋转地安装在所述滑架上的辊;以及
安装在所述滑架上并且配置成发射电磁波的曝光装置,
其中所述曝光装置配置成将电磁波发射到邻近所述辊位于所述供应桶内的第一曝光部位以至少部分地固化树脂层,
其中所述辊构造成旋转以将所述树脂层运载到所述构建区域内的施加部位以便在所述滑架穿过所述构建区域时进行施加以生产所述三维物体,并且
其中所述曝光装置还配置成将电磁波发射到所述构建区域内的第二曝光部位以施加所述层以生产所述三维物体。
2.根据权利要求1所述的沉积机构,其还包括控制器,所述控制器配置成控制所述滑架和所述辊的移动并且控制所述曝光装置的激活以生产所述三维物体。
3.根据权利要求1所述的沉积机构,其还包括第一多个光纤,所述第一多个光纤具有布置成第一阵列的第一出口端和构造成接收来自所述曝光装置的电磁波的第一入口端,以及第二多个光纤,所述第二多个光纤具有布置成第二阵列的第二出口端和构造成接收来自所述曝光装置的电磁波的第二入口端,其中所述第一多个光纤配置成使得由所述曝光装置发射的电磁波行进通过所述第一多个光纤并离开指向所述第一曝光部位的所述第一阵列的出口端,并且所述第二多个光纤配置成使得由所述曝光装置发射的电磁波行进通过所述第二多个光纤并离开指向所述第二曝光部位的所述第二阵列的出口端。
4.根据权利要求3所述的沉积机构,其中所述曝光装置包括多个LED,其中所述第一多个光纤中的每一个和所述第二多个光纤中的每一个与所述多个LED中的一个关联。
5.根据权利要求3所述的沉积机构,其中所述曝光装置包括DLP投射器,其中所述第一多个光纤中的每一个和所述第二多个光纤中的每一个配置成接收来自所述DLP投射器的电磁波。
6.根据权利要求1所述的沉积机构,其中所述辊可透电磁波,并且所述曝光装置配置成使得电磁波在行进到所述第一曝光部位和所述第二曝光部位时穿过所述辊。
7.根据权利要求1所述的沉积机构,其中所述沉积机构还包括树脂去除机构,所述树脂去除机构位于所述第一曝光部位和所述第二曝光部位之间,并且构造成在所述第一曝光部位和所述第二曝光部位之间从所述层去除过量的未固化树脂。
8.根据权利要求1所述的沉积机构,其中所述沉积机构还包括位于所述曝光装置和所述第一曝光部位之间的第一透镜阵列以及位于所述曝光装置和所述第二曝光部位之间的第二透镜阵列,其中所述第一透镜阵列和所述第二透镜阵列构造成聚焦指向所述第一曝光部位和所述第二曝光部位的电磁波。
9.根据权利要求1所述的沉积机构,其中所述沉积机构还包括厚度限制器,所述厚度限制器位于所述第一曝光部位处,使得所述第一曝光部位位于所述辊和所述厚度限制器之间,并且其中所述辊和所述厚度限制器之间的空间限定所述层的厚度。
10.根据权利要求9所述的沉积机构,其中所述厚度限制器包括可旋转地至少部分地安装在所述树脂供给内的副辊。
11.根据权利要求1所述的沉积机构,其中所述滑架构造成安装在轨道上以便移动通过所述构建区域。
12.根据权利要求11所述的沉积机构,其中所述滑架还构造成与所述轨道分开地自主移动。
13.根据权利要求1所述的沉积机构,其中所述第一曝光部位和所述第二曝光部位相对于所述辊彼此成180°定位。
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