[发明专利]生产工业硅的方法在审
申请号: | 201980037951.7 | 申请日: | 2019-03-27 |
公开(公告)号: | CN113508090A | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | K-H·里姆伯克;K·毛特纳 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学股份公司 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 彭丽丹;过晓东 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 生产 工业 方法 | ||
1.一种生产工业硅的方法,其中包含颗粒含硅金属材料并包含颗粒中介物的颗粒原料混合物被加热到至少1490℃,形成液态硅金属相,以及使所述液态硅金属相凝固,所述颗粒中介物包含元素C、O、Al、Ca和Si中的至少一种,
所述颗粒原料混合物用特征值K描述,K具有0.000至60的值,并如下计算:
其中
m(SiM)为批料中所述含硅金属材料的质量,
m(Med)为所述原料混合物中所述中介物的质量,
d50,SiM为所述含硅金属材料的级配曲线中50%的质量低于其的粒度(直径),
d50,Med为所述中介物的级配曲线中50%的质量低于其的粒度(直径),
为所述含硅金属材料的平均孔隙率。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所生产的工业硅具有至少90质量%的Si含量。
3.根据前述权利要求中的一项或多项所述的方法,其中所述含硅金属材料的颗粒的平均粒度d50,SiM为0.1至100mm。
4.根据前述权利要求中的一项或多项所述的方法,其中所述含硅金属材料的颗粒的平均孔隙率为0至0.6。
5.根据前述权利要求中的一项或多项所述的方法,其中所述中介物的颗粒的平均粒度d50,Med为0.1至100mm。
6.根据前述权利要求中的一项或多项所述的方法,其中质量比m(含硅金属材料)/m(中介物)的取值为0.1至10。
7.根据前述权利要求中的一项或多项所述的方法,其中所述含硅金属材料包括硅残留物,所述硅残留物选自硅生产或硅加工工业的副产物或废物。
8.根据前述权利要求中的一项或多项所述的方法,其中选择所述颗粒原料混合物的颗粒混合物,使得所述含硅材料的平均粒度d50,SiM大于所述中介物的平均粒度d50,Med。
9.根据前述权利要求中的一项或多项所述的方法,其中所述颗粒中介物包含元素O、Si和Ca。
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