[发明专利]用于平板处理设备的温控气体扩散器在审
申请号: | 201980039055.4 | 申请日: | 2019-06-07 |
公开(公告)号: | CN112262228A | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 苏希尔·安瓦尔;吉万·普拉卡什·塞奎拉 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52;C23C16/505;H01J37/32 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 平板 处理 设备 温控 气体 扩散器 | ||
1.一种扩散器,包括:
具有上游表面和下游表面的顶部扩散板;
设置在所述顶部扩散板中的多个第一气体通道区段,各第一气体通道与设置在所述顶部扩散板中的至少一个流体通道邻近,其中:
各流体通道与设置在所述顶部扩散板中的供应通道连接,所述供应通道具有被配置成可与热交换器的流体供应导管耦接的供应入口;并且
各流体通道与设置在所述顶部扩散板中的返回通道连接,所述返回通道具有被配置成可与所述热交换器的流体返回导管耦接的返回出口;和
与所述顶部扩散板耦接的底部扩散板,所述底部扩散板具有上游表面和下游表面。
2.根据权利要求1所述的扩散器,其中各第一气体通道区段包括与孔口耦接的第一钻孔,并且其中各第二气体通道区段包括与所述顶部扩散板的所述孔口耦接的第二钻孔。
3.根据权利要求2所述的扩散器,其中各孔口与设置在所述顶部扩散板中的至少一个流体通道邻近。
4.根据权利要求3所述的扩散器,其中与所述孔口邻近的各流体通道与所述孔口相距第一距离。
5.根据权利要求1所述的扩散器,其中当所述热交换器与所述供应通道和所述返回通道耦接时,所述热交换器可操作以使来自所述流体供应导管,通过所述供应通道、各流体通道、所述返回通道并且通过所述流体返回导管到达所述热交换器的流体循环。
6.根据权利要求5所述的扩散器,其中与所述热交换器耦接的控制器可操作以控制所述流体的循环,以维持预定的扩散器温度。
7.根据权利要求6所述的扩散器,其中设置在所述顶部扩散板中的热电偶与所述控制器耦接。
8.根据权利要求1所述的扩散器,其中所述顶部扩散板的所述下游表面被使用以下方式中的至少一种:铸型、钎焊、锻造、热等静压成型和烧结到所述底部扩散板的所述上游表面上。
9.根据权利要求1所述的扩散器,其中所述扩散器可与设置在处理腔室中的基板支撑件相对地设置在所述处理腔室中。
10.一种扩散器,包括:
具有上游表面和下游表面的顶部扩散板;
设置在所述顶部扩散板中的多个第一气体通道区段,各第一气体通道与设置在所述顶部扩散板中的至少一个流体通道邻近,其中:
各流体通道与设置在所述顶部扩散板中的供应通道和供应旁路通道之一连接,所述供应通道具有被配置成可与热交换器的流体供应导管耦接的供应入口,所述供应旁路通道与所述供应通道流体连通;并且
各流体通道与设置在所述顶部扩散板中的返回通道和返回旁路通道之一连接,所述返回通道具有被配置成可与所述热交换器的流体返回导管耦接的返回出口,所述返回旁路通道与所述返回通道流体连通;和
与所述顶部扩散板耦接的底部扩散板,所述底部扩散板具有上游表面和下游表面。
11.一种腔室,包括:
支撑组件;和
与扩散器耦接的射频(RF)电源,所述扩散器与所述支撑组件相对地设置,所述扩散器包括:
具有上游表面和下游表面的顶部扩散板;
设置在所述顶部扩散板中的多个第一气体通道区段,各第一气体通道与设置在所述顶部扩散板中的至少一个流体通道邻近,其中:
各流体通道与设置在所述顶部扩散板中的供应通道连接,所述供应通道具有被配置成可与热交换器的流体供应导管耦接的供应入口;并且
各流体通道与设置在所述顶部扩散板中的返回通道连接,所述返回通道具有被配置成可与所述热交换器的流体返回导管耦接的返回出口;和
与所述顶部扩散板耦接的底部扩散板,所述底部扩散板具有上游表面和下游表面。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的