[发明专利]抗蚀剂图案形成方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂图案形成方法，包含：

抗蚀剂层形成步骤，在基板上形成含有基体树脂、增感剂前驱体、产酸剂、碱和产碱剂的抗蚀剂层；

增感剂生成步骤，对所述抗蚀剂层进行图案曝光，由所述产酸剂产生酸，并由所述增感剂前驱体生成增感剂；

酸碱生成步骤，在所述图案曝光之后对生成了所述增感剂的所述抗蚀剂层进行整片曝光，由所述产酸剂产生酸，并由所述产碱剂产生碱；

热处理步骤，在所述整片曝光之后对所述抗蚀剂层进行热处理；以及

显影步骤，在所述热处理之后对所述抗蚀剂层进行显影，

所述图案曝光中表示所述酸的值A1相对于表示所述碱的值B1之比为C1＝A1/B1，所述整片曝光中表示所述酸的值A2相对于表示所述碱的值B2之比为C2＝A2/B2，满足0.9×C1＜C2＜10×C1的关系。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述图案曝光中表示所述酸的值A1是指所述图案曝光中由所述产酸剂产生的所述酸的峰值浓度，

所述图案曝光中表示所述碱的值B1是指形成所述抗蚀剂层时所述抗蚀剂层中含有的所述碱的浓度，

所述整片曝光中表示所述酸的值A2是指：所述图案曝光中所述酸和所述碱进行中和之后残留的酸与通过所述整片曝光由所述产酸剂产生的所述酸之和的峰值浓度，

所述整片曝光中表示所述碱的值B2是指：形成所述抗蚀剂层时所述抗蚀剂层中含有的所述碱与通过所述整片曝光由所述产碱剂产生的所述碱之和的浓度。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述图案曝光中表示所述酸的值A1是指：在所述图案曝光中所述酸与所述碱进行中和之后，酸残留的酸残留区域中由所述产酸剂产生的酸的产生量；

所述图案曝光中表示所述碱的值B1是指：在所述抗蚀剂层中的所述酸残留区域中，形成所述抗蚀剂层时所述抗蚀剂层中含有的所述碱的量；

所述整片曝光中表示所述酸的值A2是指：所述抗蚀剂层中的所述酸残留区域中，所述图案曝光中所述酸与所述碱进行中和之后残留的酸的量与通过所述整片曝光由所述产酸剂产生的所述酸的量之和；

所述整片曝光中表示所述碱的值B2是指：所述抗蚀剂层中的所述酸残留区域中，通过所述整片曝光由所述产碱剂产生的所述碱的量。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述整片曝光中所述酸与所述碱进行中和之后残留的酸的区域大小为Wb，所述图案曝光中所述酸与所述碱进行中和之后残留的酸的区域大小为Wa，Wb小于等于Wa。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述整片曝光中表示所述酸的值A2与表示所述碱的值B2之差为A2-B2，所述图案曝光中表示所述酸的值A1与表示所述碱的值B1之差为A1-B1，A2-B2大于A1-B1。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

由所述增感剂前驱体生成增感剂的增感剂生成步骤中，在对所述抗蚀剂层进行所述图案曝光由所述产酸剂产生酸之后，还包含对所述抗蚀剂层进行加热的步骤。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述图案曝光使用电磁波，所述电磁波含有波长比250nm短的KrF、ArF或极紫外线。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的抗蚀剂图案形成方法，其特征在于，

所述图案曝光使用含有电子束或离子束的带电束。