[发明专利]消泡剂活性物质、其制造方法和消泡制剂

权利要求书

1.一种消泡剂活性物质，包含：

具有不超过3%的碳含量的疏水化二氧化硅颗粒，

其中所述疏水化二氧化硅颗粒包含具有小于60m²/g的BET表面积、至少10的表面pH和在2µm至50µm范围内的中值粒度的二氧化硅颗粒，并且

其中所述疏水化二氧化硅颗粒在其表面上包含疏水化剂，

其中所述疏水化剂为聚二甲基硅氧烷，其中所述聚二甲基硅氧烷具有至少3,000Da的平均摩尔质量，

或者所述疏水化剂为硅烷醇封端的聚二甲基硅氧烷，其中所述硅烷醇封端的聚二甲基硅氧烷具有至少3,000Da的平均摩尔质量和至少3600厘泊的粘度，并且

其中至少90重量%的所述疏水化剂共价键合到所述二氧化硅颗粒。

2.根据权利要求1所述的消泡剂活性物质，其中所述疏水化二氧化硅颗粒的所述碳含量不超过2.0%。

3.根据权利要求1所述的消泡剂活性物质，其中所述疏水化二氧化硅颗粒的所述中值粒度在2µm至15µm的范围内。

4.根据权利要求1所述的消泡剂活性物质，其中所述聚二甲基硅氧烷具有至少5,000Da的平均摩尔质量。

5.根据权利要求1所述的消泡剂活性物质，其中所述硅烷醇封端的聚二甲基硅氧烷具有至少0.10重量%的羟基基团含量。

6.根据权利要求1所述的消泡剂活性物质，其中至少95重量%的所述疏水化剂共价键合到所述二氧化硅颗粒。

7.根据权利要求1所述的消泡剂活性物质，其中所述疏水化二氧化硅颗粒具有至少2的疏水性评级，如根据可漂浮性方法在体积比为60%:40%的甲醇和水的混合溶剂中所测量的。

8.根据权利要求1所述的消泡剂活性物质，其中基于所述疏水化二氧化硅颗粒的总重量，所述疏水化剂的量不超过8重量%。

9.根据权利要求8所述的消泡剂活性物质，其中基于所述疏水化二氧化硅颗粒的总重量，所述疏水化剂的量不超过6重量%。

10.一种消泡制剂，包含根据权利要求1所述的消泡剂活性物质。

11.一种涂料制剂，包含根据权利要求10所述的消泡制剂。

12.一种形成消泡剂活性物质的方法，包括：

使用螺旋喷磨机或流能磨将二氧化硅颗粒与疏水化剂碾磨并键合以获得疏水化二氧化硅颗粒，

其中所述二氧化硅颗粒具有小于60m²/g的BET表面积、至少10的表面pH和在2µm至50µm范围内的中值粒度，

其中基于所述疏水化二氧化硅颗粒的总重量，所述疏水化剂的量不超过8重量%，

其中所述疏水化二氧化硅颗粒的碳含量不超过3%，

其中所述疏水化剂为聚二甲基硅氧烷，其中所述聚二甲基硅氧烷具有至少3,000Da的平均摩尔质量，

或者所述疏水化剂为硅烷醇封端的聚二甲基硅氧烷，其中所述硅烷醇封端的聚二甲基硅氧烷具有至少3,000Da的平均摩尔质量和至少3600厘泊的粘度，并且

其中至少90重量%的所述疏水化剂共价键合到所述二氧化硅颗粒。

13.根据权利要求12所述的形成消泡剂活性物质的方法，其中使用所述螺旋喷磨机或所述流能磨将所述二氧化硅颗粒与所述疏水化剂碾磨并键合以获得所述疏水化二氧化硅颗粒包括：

将所述二氧化硅颗粒和所述疏水化剂添加到所述螺旋喷磨机或所述流能磨中；以及

在所述螺旋喷磨机或所述流能磨中将所述二氧化硅颗粒和所述疏水化剂碾磨并加热以形成所述疏水化二氧化硅颗粒。

14.根据权利要求12所述的形成消泡剂活性物质的方法，其中基于所述疏水化二氧化硅颗粒的总重量，所述疏水化剂的量不超过6重量%。

15.根据权利要求12所述的形成消泡剂活性物质的方法，其中

(b)所述消泡剂活性物质具有至少2的疏水性评级，如根据可漂浮性方法在体积比为60%:40%的甲醇和水的混合溶剂中所测量的，或者

(c)所述疏水化二氧化硅颗粒具有在2µm至15µm范围内的中值粒度，或者

(d)所述疏水化二氧化硅颗粒上的所述疏水化剂的总量的不超过10重量%未键合并且物理吸附在所述二氧化硅颗粒上。