[发明专利]放射治疗的系统和方法

说明书

提供了一种用于将电子束注入加速器的系统和方法。所述系统可以包括阴极、阳极和调制电极。用于产生所述电子束的所述阴极可以具有第一电势。所述阳极可以具有第二电势。位于所述阴极和所述阳极之间的所述调制电极可以被配置为调节所述电子束的至少一个参数。所述电子束的所述至少一个参数可以包括所述电子束的至少一个横向参数。

技术领域

本申请总体上涉及用于放射治疗的系统和方法，并且更具体地涉及包含被配置为允许调整结构和/或操作参数的电子注入系统的系统和方法。

背景技术

放射治疗被广泛用于癌症治疗中，也被用于指示其他几种健康状况。通常，在治疗开始之前生成针对患者的放射治疗的治疗计划(在本文中也称为治疗计划)。针对不同患者的不同治疗计划可能需要不同的参数。例如，在不同的治疗计划中可能需要不同的电子束参数。此外，放射治疗系统可以具有不同的操作模式，例如成像模式和治疗模式。治疗模式可以包括低能量治疗模式、中能量治疗模式和/或高能量治疗模式。不同的治疗模式对于注入电子枪的电子束可能有不同的要求。因此，期望开发用于允许调节电子注入器的参数的系统和方法，从而可以产生期望的电子束以满足不同的操作模式。

发明内容

在本申请的第一方面，提供了一种用于将电子束注入加速器的系统。所述系统可以包括阴极、阳极和调制电极。用于产生所述电子束的所述阴极可以具有第一电势。所述阳极可以具有第二电势。位于所述阴极和所述阳极之间的所述调制电极可以被配置为调节所述电子束的至少一个参数。所述电子束的至少一个参数可以包括所述电子束的至少一个横向参数。

在一些实施例中，所述电子束的至少一个横向参数可以包括所述电子束的Twiss参数。

在一些实施例中，所述调制电极可以被配置为调节所述阴极和所述阳极之间的电势分布以控制所述电子束的轨迹。

在一些实施例中，所述系统可以包括控制器，所述控制器被配置为基于至少一个横向参数来向所述调制电极施加第三电势，以调节所述阴极和所述阳极之间的所述电势分布。

在一些实施例中，所述至少一个横向参数可以包括第一参数或第二参数中的至少一个。可以基于所述第一参数或所述第二参数中的至少一个来施加所述第三电势。

在一些实施例中，所述第一参数可以是与所述电子束的横向尺寸有关的Twiss参数β，并且所述第二参数可以是与所述电子束在横向方向上的发散角有关的Twiss参数γ。

在一些实施例中，可以基于所述第一电势和所述第三电势产生具有第一电场强度的第一电场，并且可以基于所述第二电势和所述第三电势产生具有第二电场强度的第二电场。

在一些实施例中，当所述第一电场强度小于所述第二电场强度时，所述第一参数可以减小。

在一些实施例中，当所述第一电场强度小于所述第二电场强度时，所述第二参数可以增加。

在一些实施例中，所述调制电极可以被配置为通过基于所述至少一个横向参数在所述阴极和所述阳极之间产生磁场来控制所述电子束的轨迹。

在一些实施例中，所述磁场可以是螺线管磁场。

在一些实施例中，所述系统可以包括被配置为控制所述阴极的束流的栅极。

在本申请的第二方面，提供了一种用于将电子束注入加速器的系统。所述系统可以包括阴极、阳极和调制电极。用于产生电子束的所述阴极可以具有第一电势。所述阳极可以具有第二电势。位于所述阴极和所述阳极之间的所述调制电极可以被配置为通过控制所述电子束的轨迹来调整所述电子束的轮廓。

在一些实施例中，可以通过调节所述电子束的至少一个横向参数来调节所述电子束的轮廓。

在一些实施例中，可以通过控制所述阴极和所述阳极之间的电势分布来调节所述电子束的轮廓。