[发明专利]复合钨氧化物膜及其制造方法以及具有该膜的膜形成基材和物品

权利要求书

1.一种复合钨氧化物膜，其是以通式M_xW_yO_z所表示的组成为主成分的复合钨氧化物膜，其中，M是从碱金属、碱土金属、Fe、In、Tl、Sn中选择的1种以上的元素，W是钨，O是氧，所述复合钨氧化物膜的特征在于，

0.001≤x/y≤1、2.2≤z/y≤3.0，

实质上不含有机物成分，

波长550nm时的透过率为50％以上，波长1400nm时的透过率为30％以下，并且波长1400nm时的反射率为35％以上。

2.如权利要求1所述的复合钨氧化物膜，其特征在于，表面粗糙度Sa为20nm以下。

3.如权利要求1或权利要求2所述的复合钨氧化物膜，其特征在于，薄膜电阻小于10⁵Ω/□。

4.如权利要求1至权利要求3中任一项所述的复合钨氧化物膜，其特征在于，通过溅射成膜而获得。

5.如权利要求1至权利要求4中任一项所述的复合钨氧化物膜，其特征在于，所述M是从Cs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Na、Ca、Sr、Fe和Sn中选择的1种以上的元素。

6.如权利要求1至权利要求5中任一项所述的复合钨氧化物膜，其含有六方晶的晶体结构。

7.如权利要求6所述的复合钨氧化物膜，

在将通过使用CuKα射线的X射线衍射得到的六方晶(002)面的衍射强度I(002)与六方晶(200)面的衍射强度I(200)的强度比设为I(002)/I(200)时，I(002)/I(200)为0.30以上0.50以下，

通过使用CuKα射线的X射线衍射得到的六方晶的a轴与c轴的比c/a为1.018～1.029。

8.一种复合钨氧化物膜，其是以通式M_xW_yO_z所表示的组成为主成分的复合钨氧化物膜，其中，M是从碱金属、碱土金属、Fe、In、Tl、Sn中选择的1种以上的元素，W是钨，O是氧，

0.001≤x/y≤1、2.2≤z/y≤3.0，

该复合钨氧化物膜含有六方晶的晶体结构，

在将通过使用CuKα射线的X射线衍射得到的六方晶(002)面的衍射强度I(002)与六方晶(200)面的衍射强度I(200)的强度比设为I(002)/I(200)时，I(002)/I(200)为0.30以上0.50以下，

通过使用CuKα射线的X射线衍射得到的六方晶的a轴与c轴的比c/a为1.018～1.029。

9.如权利要求8所述的复合钨氧化物膜，其特征在于，所述M是从Cs、Rb、K、Tl、Ba中选择的1种以上的元素。

10.如权利要求1至权利要求9中任一项所述的复合钨氧化物膜，其特征在于，具有比20nm厚的膜厚。

11.一种膜形成基材，其特征在于，在被成膜基材的至少一个面上形成有权利要求1至权利要求10中任一项所述的复合钨氧化物膜。

12.如权利要求11所述的膜形成基材，其特征在于，所述被成膜基材具有400℃以上的软化点或者热变形温度。

13.如权利要求11或权利要求12所述的膜形成基材，其特征在于，所述被成膜基材为玻璃。

14.一种物品，其特征在于，具有1个或多个权利要求1至权利要求10中任一项所述的复合钨氧化物膜和/或权利要求11至权利要求13中任一项所述的膜形成基材。

15.一种复合钨氧化物膜的制造方法，其特征在于，

具有：通过物理成膜法来形成膜的成膜工序、以及对所述膜进行热处理的热处理工序，

所述成膜工序中，在非活性气体中进行成膜，并且，所述热处理工序中，在非活性气体或含有还原性气体的非活性气体中以400～700℃进行热处理。