[发明专利]用于光刻测量的传感器装置

权利要求书

1.一种传感器装置，包括：

声学组件，被布置为向具有目标的衬底发送声学信号，并且被布置为在所述声学信号已与所述衬底相互作用之后，接收反射的所述声学信号的至少一部分；

换能器，被布置为将反射的所述声学信号的所述至少一部分转换为电子信号；以及

处理器，被配置为接收所述电子信号，其中所述处理器被配置为基于所述电子信号确定所述衬底的至少一部分的形貌和所述目标的位置两者。

2.根据权利要求1所述的传感器装置，其中所述处理器被配置为从至少两个不同的时间检测窗口接收所述电子信号，使得所述处理器从所述时间检测窗口中的一个时间检测窗口接收所述电子信号中的与所述衬底的所述形貌相对应的第一部分、并且从另一时间检测窗口接收所述电子信号中的与所述目标的所述位置相对应的第二部分。

3.根据权利要求2所述的传感器装置，其中所述处理器被电子门控以从所述至少两个不同的时间检测窗口接收所述信号的所述至少一部分。

4.根据前述权利要求中任一项所述的传感器装置，其中所述处理器被配置为：在确定所述衬底的所述目标的所述位置时，至少部分地考虑所述衬底的所述至少一部分的所述形貌。

5.根据前述权利要求中任一项所述的传感器装置，其中所述声学信号是连续波，所述连续波被配置为在所述换能器与所述衬底之间生成至少一个驻波，并且其中所述处理器被配置为基于所述电子信号确定所述驻波的波长。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的传感器装置，其中所述声学信号是脉冲。

7.根据前述权利要求中任一项所述的传感器装置，其中所述换能器包括多个换能器。

8.根据前述权利要求中任一项所述的传感器装置，其中所述声学组件包括第一声学透镜，所述第一声学透镜被配置为将所述声学信号引导朝向所述衬底。

9.根据权利要求8所述的传感器装置，其中所述声学组件还包括第二声学透镜，所述第二声学透镜被配置为将反射的所述声学信号的所述至少一部分从所述衬底引导朝向所述换能器。

10.根据前述权利要求中任一项所述的传感器装置，还包括位于所述换能器与所述衬底之间的一股流体。

11.根据权利要求10所述的传感器装置，还包括被配置为提供所述一股流体的流体控制系统。

12.根据权利要求11所述的传感器装置，其中所述流体控制系统被配置为控制所述流体的温度。

13.根据前述权利要求中任一项所述的传感器装置，其中所述声学组件被配置为发送具有频率在约100MHz与约10GHz之间的所述声学信号。

14.根据前述权利要求中任一项所述的传感器装置，还包括致动系统，所述致动系统被配置为将所述传感器装置和所述衬底相对于彼此移动。

15.根据前述权利要求中任一项所述的传感器装置，其中所述换能器包括光学反射构件，并且其中所述传感器装置还包括光学检测器，所述光学检测器包括干涉检测方案，所述干涉检测方案被配置为检测所述光学反射构件的机械位移。

16.根据前述权利要求中任一项所述的传感器装置，其中所述传感器装置形成计量装置的一部分。