[发明专利]聚酰胺酸及含有其的清漆、膜、触控面板显示器、液晶显示器及有机EL显示器

说明书

本发明的目的在于提供一种耐热性及弯曲强度(拉伸伸长率)高、厚度方向的相位差小、线膨胀系数低、进而透明性高的膜、以及用于获得该膜的聚酰胺酸、清漆。膜满足以下全部(i)～(vi)。(i)100℃～200℃的范围中的线膨胀系数的平均值为35ppm/K以下；(ii)厚度方向的相位差的绝对值是每10μm厚度为200nm以下；(iii)玻璃化转变温度为340℃以上；(iv)全光线透过率为85％以上；(v)L*a*b*表色系中的b*值为5以下；(vi)拉伸伸长率为10％以上。

技术领域

本发明涉及一种聚酰胺酸及含有其的清漆、膜、以及使用该膜的触控面板显示器、液晶显示器及有机EL显示器。

背景技术

以往，在液晶显示元件、或有机EL显示元件等显示器中，在面板基板等中使用作为透明材料的无机玻璃。然而，无机玻璃的比重(重量)高，而且弯曲性、耐冲击性低。因此，正在研究将轻量性、耐冲击性、加工性及柔性优异的聚酰亚胺膜应用于显示装置的面板基板中。

此处，对显示装置的面板基板要求高的光透过性。另外，显示装置中，经由面板基板观察元件所显示的影像。因此，对面板基板还要求光的行进方向(基板的厚度方向)的相位差小。另外，在面板基板上形成元件的工序中，有时面板基板会承受热。因此，对面板基板还要求高的耐热性、高的尺寸稳定性(例如，线膨胀系数小)。

以往，提出了通过具有萘结构及芴结构的聚酰亚胺来减小聚酰亚胺膜的线膨胀系数及厚度方向的相位差(专利文献1)。另外，也提出了通过由亚芴基双邻苯二甲酸酐与二胺获得的聚酰亚胺而得到吸水性低的聚酰亚胺膜(专利文献2)。

进而，还提出了通过由9,9-双(4-氨基苯基)芴与四羧酸二酐获得的聚酰亚胺而得到透气性、耐热性、机械强度高的聚酰亚胺膜(专利文献3)。另外，还提出了通过在聚酰胺酸中混合包含碱金属或碱土金属的化合物，并使其酰亚胺化，从而提高所获得的聚酰亚胺膜的透明性、耐热性，或者降低线膨胀系数等(专利文献4)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2014/162734号

专利文献2：日本特开2009-79165号公报

专利文献3：日本特开平5-31341号公报

专利文献4：国际公开第2009/069688号

发明内容

发明所要解决的课题

近年来，正在研究在TFT矩阵用的基板中使用聚酰亚胺膜。TFT矩阵是经过使用多晶的低温多晶硅(LTPS)的工艺而制作的。因此，对于在TFT矩阵用的基板中使用的聚酰亚胺膜，要求比以往更高的耐热性、高的弯曲强度、优异的柔性等。但是，上述任一文献的聚酰亚胺膜中，这些性质均不充分，要求减小厚度方向的相位差及线膨胀系数，同时提高耐热性、弯曲强度，并进一步改良柔性。

本发明是鉴于这种情况而完成的，其目的在于提供一种耐热性及弯曲强度(拉伸伸长率)高、厚度方向的相位差小、线膨胀系数低、进而透明性高的膜、以及用于获得该膜的聚酰胺酸、清漆。另外，本发明的目的还在于提供一种使用该膜的触控面板显示器、液晶显示器、有机EL显示器。

用于解决课题的方案

即，本发明提供以下的膜。

[1]一种膜，其满足以下全部(i)～(vi)：

(i)100℃～200℃的范围中的线膨胀系数的平均值为35ppm/K以下

(ii)厚度方向的相位差的绝对值是每10μm厚度为200nm以下

(iii)玻璃化转变温度为340℃以上

(iv)全光线透过率为85％以上