[发明专利]转印薄膜、层叠体及图案形成方法在审

专利信息
申请号: 201980042030.X 申请日: 2019-08-16
公开(公告)号: CN112352199A 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 霜山达也 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/11 分类号: G03F7/11;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/095;G03F7/20;G06F3/041
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 薛海蛟
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 薄膜 层叠 图案 形成 方法
【说明书】:

发明提供一种转印薄膜以及层叠体及图案形成方法,该转印薄膜依次具有临时支承体、含有粘合剂聚合物、聚合性化合物及光聚合引发剂的第1感光层以及至少包含粘合剂聚合物且光学浓度为0.5以上的遮光层。

技术领域

本公开有关一种转印薄膜、层叠体及图案形成方法。

背景技术

近年来,在移动电话、汽车导航系统、个人电脑、售票机、银行的终端等电子设备中,在液晶装置等表面配置有平板型输入装置。具有如下装置,即,一边参考液晶装置的图像显示区域中所显示的指示图像,一边在指示图像所显示的部位用手指或触控笔等触摸,由此进行与指示图像对应的信息的输入。

输入装置(以下,也称为触控面板。)中具有电阻膜型、静电电容型等。静电电容型输入装置的情况下,具有在一片基板上简单地形成透光性导电膜的优点。

作为导电膜以图案状形成的配线基板,具有使用金属配线图案配设于基板的两侧的两面印刷配线基板的倾向。

在基板上配设有金属配线的配线基板能够通过如下来制作,即,通过光刻胶法在基板上所形成的金属膜上形成图案状光阻膜,将光阻膜作为遮罩而对金属膜进行蚀刻等。而且,两面印刷配线基板的情况下,对基板的两侧进行将图案状光阻膜作为遮罩而进行蚀刻的作业。

作为与上述相关联的技术,发明了一种对透明基材的两面进行图案化的方法(例如,参考日本特开2011-154080号公报)。具体而言,记载有在设置于透明基材的表面背面的透明金属膜的图案形成中,在透明金属膜中的至少一个透明金属膜上形成遮蔽曝光光的不透明层,在透明基材的表面背面上涂布光刻胶而形成光刻胶膜,在具有光刻胶膜的两面进行不同的图案曝光,能够分别形成光阻图案。

并且,公开了一种感光性转印片材,其中,作为印刷配线基板的制造中有用的材料,在支承体上依次层叠包含粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂的第一感光层、显示比第一感光层的光灵敏度相对高的光灵敏度的第二感光层(例如,参考日本特开2005-331695号公报)。

发明内容

发明要解决的技术课题

如上所述,以往进行了分别在透明基材的两侧形成配线图案。但是,若在透明基材的两侧设置感光性光阻图案而分别进行曝光,例如想在透明基材的两侧形成彼此不同的图案,则从透明基材的其中一侧照射的光容易透射透明基材而到达另一侧。因此,即使能够在光所照射的其中一侧形成良好的图案,有时在另一侧受到所透射的光的影响而图案的形状明显受损。

以往技术中,上述的日本特开2011-154080号公报中,设置不透明层而防止照射到其中一侧的光透射到另一侧。但是,不透明层中使用铝等金属,因此形成有光阻图案之后蚀刻形成配线图案时,不得不将用于形成金属配线的蚀刻与预先对不透明层进行刻蚀的作业分开设置,从而存在工序数变多的问题。并且,由于在光刻胶的显影处理时未去除不透明层,因此不可能显影后直接对透明基材的两侧同时进行蚀刻处理。

但是,日本特开2011-154080号公报中所记载的技术中,由于图案曝光时光容易在不透明层反射,因此具有反射光损坏图案精度而容易损坏图案的精细度的倾向。

本发明是鉴于上述而完成。

本发明的一实施方式欲要解决的课题在于提供一种抑制转印后的图案曝光时的因来自透明基材的其中一侧的照射光而引起的另一侧的图案形成性的影响且能够简便地形成精细的图案的转印膜或层叠体。

本发明的另一实施方式欲要解决的课题在于提供一种抑制转印后的图案曝光时的因来自于透明基材的其中一侧的照射光而引起的另一侧的图案形成性的影响的同时能够简便地形成精细的图案的图案形成方法。

用于解决技术课题的手段

用于解决课题的具体的机构包括以下方式。

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