[发明专利]含氟化合物的制造方法

权利要求书

1.一种式(1)所示的化合物的制造方法，其特征在于，包括：

使式(2)所示的化合物在根据需要的还原剂的存在下且在光照射下与式(3)所示的化合物反应的工序A，

式(1)：

式(1)中，

R¹为有机基团，

R^A为氢原子或氟原子，

R^4a为氢原子或有机基团，

R^4b为氢原子或有机基团，

R²为氢原子或有机基团，且

R^5a为氢原子或有机基团，

R^5b为氢原子或有机基团，

或者，R²可以与R^4a连结而形成环；

式(2)：

式(2)中，X¹为消去基团，且其它符号与上述意义相同；

式(3)：

式(3)中，X²为消去基团，且其它符号与上述意义相同。

2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：

R¹为R¹¹－Y－或(R¹¹－)₂N－，

Y为价键、氧原子或硫原子，且

R¹¹在每次出现时独立地为可以具有1个以上的取代基的烃基。

3.如权利要求2所述的制造方法，其特征在于：

R¹为R¹¹－Y－，

Y为价键，且

R¹¹为可以具有1个以上的取代基的芳基或可以具有1个以上的取代基的烷基。

4.如权利要求2所述的制造方法，其特征在于：

R¹为R¹¹－Y－，

Y为－O－C(＝O)－或－O－C(＝S)－，且

R¹¹为可以具有1个以上的取代基的脂肪族烃基。

5.如权利要求2所述的制造方法，其特征在于：

R¹为(R¹¹－)₂N－C(＝O)－，

R¹¹在每次出现时独立地为可以具有1个以上的取代基的脂肪族烃基。

6.如权利要求1～5所述的制造方法，其特征在于：

R^A为氟原子。

7.如权利要求1～6所述的制造方法，其特征在于：

R^4a为氢原子，

R^4b为氢原子，

R²为氢原子、可以具有1个以上的取代基的烃基或可以具有1个以上的取代基的烷氧羰基，

R^5a为氢原子，且

R^5b为氢原子。

8.如权利要求1～7所述的制造方法，其特征在于：

X¹为卤原子、烷基磺酰氧基或芳基磺酰氧基。

9.如权利要求1～8所述的制造方法，其特征在于：

X²为－SO₂R、－SR、－S(＝O)R、－SeR、－TeR、－Cl、－Br、－I、－PR₂或－P(＝O)R₂，

这些式中，R在每次出现时独立地为有机基团。

10.如权利要求9所述的制造方法，其特征在于：

X²为－SO₂R，该式中，R为有机基团。