[发明专利]可逆记录介质和外装构件有效
申请号: | 201980042227.3 | 申请日: | 2019-05-16 |
公开(公告)号: | CN112351891B | 公开(公告)日: | 2022-10-28 |
发明(设计)人: | 水野裕;尼子博久;野本和正;平井畅一;石田武久 | 申请(专利权)人: | 索尼公司 |
主分类号: | B41M5/28 | 分类号: | B41M5/28;B41M5/40;B41M5/42;B41M5/44 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉双 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可逆 记录 介质 构件 | ||
1.一种可逆记录介质,包括:
记录层,所述记录层包括作为着色化合物的无色颜料;和
第一阻挡膜,所述第一阻挡膜设置在所述记录层的一个表面和侧面上,并且抑制水或氧气的至少一种的混入,其中
所述第一阻挡膜从所述一个表面到背向所述一个表面的另一表面连续地设置,并且
所述第一阻挡膜的端部在所述另一表面的外周部被密封剂密封,或所述第一阻挡膜的四个侧边在所述记录层的另一表面的对角线上被密封剂彼此密封。
2.根据权利要求1所述的可逆记录介质,其中
所述记录层和所述第一阻挡膜各自具有矩形形状。
3.根据权利要求1所述的可逆记录介质,其中所述第一阻挡膜具有0.001g/m2/天以上且10g/m2/天以下的水蒸气透过率。
4.根据权利要求1所述的可逆记录介质,其中所述第一阻挡膜包括作为基材的塑料膜和设置在所述基材上的无机氧化膜。
5.根据权利要求4所述的可逆记录介质,其中所述基材是使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)中的至少一种形成的。
6.根据权利要求4所述的可逆记录介质,其中所述无机氧化膜包括使用氧化硅膜、氧化铝膜和氮化硅膜中的至少一种的单层膜或层压膜。
7.根据权利要求1所述的可逆记录介质,进一步包括第二阻挡膜,所述第二阻挡膜抑制水或氧气中的至少一种混入所述记录层的所述另一表面。
8.根据权利要求7所述的可逆记录介质,其中所述第二阻挡膜设置在所述记录层的所述另一表面上,并且所述第一阻挡膜设置在所述第二阻挡膜上。
9.根据权利要求7所述的可逆记录介质,其中所述第二阻挡膜隔着所述第一阻挡膜设置在所述记录层的所述另一表面上。
10.根据权利要求1所述的可逆记录介质,进一步包括位于所述记录层和所述第一阻挡膜之间的第三阻挡膜。
11.根据权利要求10所述的可逆记录介质,其中所述第三阻挡膜是使用氢氟醚或乙烯乙烯醇中的至少一种形成的。
12.根据权利要求1所述的可逆记录介质,其中所述密封剂包括热固性树脂。
13.根据权利要求1所述的可逆记录介质,其中
所述记录层包括位于所述一个表面和与背向所述一个表面的另一表面上的粘合剂层,并且
所述第一阻挡膜隔着所述粘合剂层设置。
14.根据权利要求1所述的可逆记录介质,进一步包括位于所述记录层的所述侧面上的缓冲层。
15.根据权利要求14所述的可逆记录介质,其中所述缓冲层是使用水溶性聚酯材料、双组分聚环氧材料、双组分聚胺材料和水溶性乳液材料中的至少一种形成的。
16.根据权利要求1所述的可逆记录介质,进一步包括位于设置在所述记录层的所述一个表面上的所述第一阻挡膜上的UV吸收层和硬涂层中的至少一种。
17.根据权利要求1所述的可逆记录介质,其中所述记录层包括待呈现彼此不同颜色的多个层。
18.一种外装构件,所述外装构件至少具有在支撑基材上设置了可逆记录介质的一个表面,
所述可逆记录介质包括:
记录层,所述记录层包括作为着色化合物的无色颜料;和
第一阻挡膜,所述第一阻挡膜设置在所述记录层的一个表面和侧面上,并且抑制水或氧气的至少一者的混入,其中
所述第一阻挡膜从所述一个表面到背向所述一个表面的另一表面连续地设置,并且
所述第一阻挡膜的端部在所述另一表面的外周部被密封剂密封,或所述第一阻挡膜的四个侧边在所述记录层的另一表面的对角线上被密封剂彼此密封。
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