[发明专利]将图形处理单元用于基板路由及吞吐量建模

权利要求书

1.一种在集成基板处理系统中安排半导体基板处理序列的方法，所述方法包括以下步骤：

针对一批半导体基板产生处理模型，其中所述处理模型包括矩阵并针对所述集成基板处理系统中的每个处理腔室中的每个半导体基板定义对应的开始时间；

基于所述处理模型产生平行输入，其中产生所述平行输入的步骤包括通过一个或多个图形处理单元中的第一图形处理单元基于所述矩阵来产生多个矩阵；

通过所述一个或多个图形处理单元的多个核心并行处理所述平行输入以针对所述一批半导体基板产生平行输出，其中所述平行输入中的每一者在所述一个或多个图形处理单元的所述多个核心中的相异核心上处理，以产生对应的平行输出；及

使得在所述集成基板处理系统中基于所述平行输出处理所述一批半导体基板。

2.根据权利要求1所述的方法，更包括以下步骤：由所述第一图形处理单元接收所述处理模型，其中所述平行输出对应用于处理所述一批半导体基板的一组值。

3.根据权利要求2所述的方法，其中产生所述平行输出的步骤包括以下步骤：

针对所述多个矩阵中的每一者，对所述多个矩阵中的每一者进行求解以产生多组值中的对应的一组值，其中所述多组值中的每一者对应用于处理所述一批半导体基板的相应处理持续时间；及

选定所述多组值中的与用于所述一批半导体基板的所述处理的最小处理持续时间对应的所述组值。

4.根据权利要求1所述的方法，更包括以下步骤：基于所述平行输出预测所述集成基板处理系统的吞吐量。

5.根据权利要求1所述的方法，更包括以下步骤：

检测所述集成基板处理系统中的错误；

基于所述错误产生更新的处理模型；

基于所述更新的处理模型产生更新的平行输入；

通过所述一个或多个图形处理单元处理所述更新的平行输入以针对所述一批半导体基板产生更新的平行输出；及

使得在所述集成基板处理系统中基于所述更新的平行输出处理所述一批半导体基板。

6.根据权利要求5所述的方法，其中；

所述使得基于所述平行输出处理所述一批半导体基板的步骤包括以下步骤：基于所述平行输出在所述集成基板处理系统中对所述一批半导体基板进行路由；及

所述使得基于所述更新的平行输出处理所述一批半导体基板的步骤包括以下步骤：基于所述更新的平行输出在所述集成基板处理系统中对一个或多个半导体基板进行重新路由。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个图形处理单元包括第一图形处理单元及第二图形处理单元，所述方法更包括以下步骤：

由所述第一图形处理单元接收所述处理模型，其中产生所述平行输入的所述步骤是藉由所述第一图形处理单元来进行的；

由所述第一图形处理单元确定所述平行输入的第一量超过所述第一图形处理单元的第一多个核心的第二量；及

将所述平行输入的第一子集分配给所述第一图形处理单元并将所述平行输入的第二子集分配给所述第二图形处理单元，其中所述第一图形处理单元要处理所述第一子集且所述第二图形处理单元要处理所述第二子集。

8.根据权利要求1所述的方法，更包括以下步骤：

基于所述一批半导体基板，产生待处理的半导体基板列表；

将对应处理序列分配给对应于所述半导体基板列表的每个半导体基板；及

针对所述半导体基板列表中的每个半导体基板，将对应的处理腔室分配给所述对应处理序列中的每个处理，其中所述处理模型是基于所述半导体基板列表、用于所述半导体基板列表的每个半导体基板的所述对应处理序列、及用于所述半导体基板列表的每个半导体基板的所述对应处理序列中的用于每个处理的所述对应处理腔室来产生的。

9.根据权利要求1所述的方法，更包括以下步骤：基于所述平行输出针对所述一批半导体基板产生时间表，其中所述使得基于所述平行输出处理所述一批半导体基板的步骤包括以下步骤：使得根据所述时间表处理所述一批半导体基板。