[发明专利]凹面衍射光栅以及其制造方法、和光学装置有效
申请号: | 201980042410.3 | 申请日: | 2019-04-24 |
公开(公告)号: | CN112313548B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 青野宇纪;江畠佳定;八重樫健太;松井繁 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G01J3/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴秋明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 凹面 衍射 光栅 及其 制造 方法 光学 装置 | ||
1.一种凹面衍射光栅,对光进行分光、聚光,其特征在于,
在凹面状的基板上具有锯齿形状的光栅槽,所述锯齿形状的光栅槽的间隔不等,
所述光栅槽具有使所述光栅槽的间隔在闪耀方向上等差地缩小的形状且具有固定的闪耀角。
2.一种凹面衍射光栅,对光进行分光、聚光,其特征在于,
在凹面状的基板上具有锯齿形状的光栅槽,所述锯齿形状的光栅槽的间隔不等,
所述光栅槽具有相互相邻的光栅槽的间隔沿着闪耀方向从宽间隔向窄间隔阶段地慢慢变化的形状且具有固定的闪耀角。
3.根据权利要求1或2所述的凹面衍射光栅,其特征在于,
对光进行分光、聚光的凹面是球面。
4.一种凹面衍射光栅的制造方法,其特征在于,具备如下工序:
通过光刻法以及蚀刻、或机械加工在平面状基板上形成锯齿形状,形成不等间隔的光栅槽,来制作平面状的衍射光栅基板,所述光栅槽具有使所述光栅槽的间隔在闪耀方向上等差地缩小的形状且具有固定的闪耀角;
设置凹面基板,使得凹面与形成了所述光栅槽的面对置,并隔着粘接层设置凸面基板,使得凸面与形成了所述光栅槽的面的相反侧的面对置;
粘接工序,使所述平面状的衍射光栅基板的形成光栅槽的面仿制到所述凹面基板,并通过所述粘接层将所述平面状的衍射光栅基板与所述凸面基板粘接;
在将所述凹面基板卸下后,将所述平面状的衍射光栅基板当中比所述凸面基板的凸面更向外侧延伸的外周部除去,来形成凹面衍射光栅的模;和
将所述凹面衍射光栅的模转印到金属或树脂的表面。
5.一种凹面衍射光栅的制造方法,其特征在于,具备如下工序:
通过光刻法以及蚀刻、或机械加工在平面状基板上形成锯齿形状,形成不等间隔的光栅槽,来制作平面状的衍射光栅基板,所述光栅槽具有相互相邻的光栅槽的间隔沿着闪耀方向从宽间隔向窄间隔阶段地慢慢变化的形状且具有固定的闪耀角;
设置凹面基板,使得凹面与形成了所述光栅槽的面对置,并隔着粘接层设置凸面基板,使得凸面与形成了所述光栅槽的面的相反侧的面对置;
粘接工序,使所述平面状的衍射光栅基板的形成光栅槽的面仿制到所述凹面基板,并通过所述粘接层将所述平面状的衍射光栅基板与所述凸面基板粘接;
在将所述凹面基板卸下后,将所述平面状的衍射光栅基板当中比所述凸面基板的凸面更向外侧延伸的外周部除去,来形成凹面衍射光栅的模;和
将所述凹面衍射光栅的模转印到金属或树脂的表面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980042410.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:注射器型调色剂再填充盒中的柱塞锁定结构
- 下一篇:内窥镜