[发明专利]基于性能匹配的调谐扫描器的波前优化

权利要求书

1.一种用于确定图案化过程的图案形成设备的波前的方法，所述方法包括：

获得(i)参考设备的参考性能、(ii)被配置成将波前的波前参数转换为致动器移动的图案形成设备的透镜模型、和(iii)调谐扫描器的透镜指纹；以及

经由处理器，基于所述调谐扫描器的所述透镜指纹、所述透镜模型、和成本函数，确定所述波前参数，其中所述成本函数是所述参考性能与调谐扫描器性能之间的差。

2.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述波前参数是迭代过程，迭代包括：

经由使用所述调谐扫描器的所述透镜指纹对所述透镜模型的模拟，产生初始波前；

根据所述初始波前来确定衬底图案；

根据所述衬底图案来确定调谐性能；

基于所述调谐性能和所述参考性能来评估所述成本函数；以及

基于所述成本函数的梯度来调整所述初始波前的所述波前参数，以便改善所述成本函数。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述波前包括所述调谐扫描器的所述透镜指纹和所述透镜模型的性能指纹。

4.根据权利要求3所述的方法，其中调整所述波前参数还基于所述透镜模型的所述性能指纹。

5.根据权利要求2所述的方法，其中确定所述衬底图案包括：使用所述初始波前或调整后的波前，对所述图案化过程的过程模型进行模拟，和/或

其中所述过程模型包括：

掩模模型，所述掩模模型被配置成基于掩模图案来预测掩模图像；

光学模型，所述光学模型被配置成根据所述掩模图案来预测空间图像；和/或

抗蚀剂模型，所述抗蚀剂模型被配置成根据所述空间图像来预测抗蚀剂图像。

6.根据权利要求2所述的方法，其中确定所述衬底图案包括：

经由量测工具接收曝光后的衬底的衬底测量结果，其中使用所述初始波前或调整后的波前来曝光所述衬底；和

基于来自所述衬底测量结果的轮廓提取来确定所述衬底图案。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述成本函数被最小化或最大化。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述成本函数是边缘放置误差、CD和/或边缘放置的公差带内的误差。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述透镜模型包括与对应于波前参数的调谐扫描器的校正限制相关的约束。

10.根据权利要求1所述的方法，其中所述波前参数包括与所述图案形成设备的光学系统相关联的偏移、倾斜、曲率、和/或至多第三阶参数。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述波前是贯穿狭缝波前。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述狭缝具有矩形形状。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述波前由跨过狭缝的泽尼克多项式表示。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述波前参数被表述为泽尼克系数的向量。

15.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：

经由所述透镜模型，将所述波前参数转换为所述致动器移动；以及

基于所述致动器移动，致动所述调谐扫描器的光学系统。