[发明专利]双零点液态金属偏滤器

权利要求书

1.一种托卡马克等离子体容器，包括：

环形等离子体室；

多个极向场线圈；

上偏滤器组件；

下偏滤器组件；

其中，所述多个极向场线圈被配置成提供具有基本对称的等离子体核以及上零点和下零点的极向磁场，使得在所述等离子体核的外部的刮除层中的离子被所述磁场引导经过所述上零点和所述下零点中的一者而到达相应的上偏滤器组件和下偏滤器组件的偏滤器表面；

其中，所述上偏滤器组件和所述下偏滤器组件中的每一者包括：

液态金属入口；以及

液态金属出口，其位于所述液态金属入口下方；

被配置成使得在使用中，液态金属在所述偏滤器组件的至少一个偏滤器表面上从所述液态金属入口流动到所述液态金属出口。

2.根据权利要求1所述的托卡马克等离子体容器，其中，所述极向场线圈被配置成提供对称磁场。

3.根据权利要求1所述的托卡马克等离子体容器，其中，所述极向场线圈被配置成提供在所述等离子体核的外部不对称的磁场，以优化与面朝上方的偏滤器表面的相互作用。

4.根据前述权利要求中任一项所述的托卡马克等离子体容器，其中：

所述上偏滤器组件和所述下偏滤器组件中的每一者包括径向内侧偏滤器表面和径向外侧偏滤器表面；

所述液态金属入口和所述液态金属出口被定位成使得液态金属至少在相应的外侧偏滤器表面之上流动；

所述内侧偏滤器表面被定位成接收来自在等离子体包膜的径向向内侧的刮除层的离子；并且

所述外侧偏滤器表面被定位成接收来自在等离子体包膜的径向向外侧的刮除层的离子。

5.根据权利要求4所述的托卡马克等离子体容器，其中，每个偏滤器组件包括用于所述内侧偏滤器表面和所述外侧偏滤器表面中的每一者的相应的液态金属入口和液态金属出口。

6.根据权利要求4所述的托卡马克等离子体容器，其中，所述内侧偏滤器表面由固态金属形成。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的托卡马克等离子体容器，其中：

所述上偏滤器组件和所述下偏滤器组件中的每一者包括：

位于内侧击中点的内侧击中点偏滤器表面；

位于外侧击中点的外侧击中点偏滤器表面；

位于所述内侧击中点偏滤器表面的径向向内侧的内侧远偏滤器表面；

位于所述外侧击中点偏滤器表面的径向向外侧的外侧远偏滤器表面；

位于所述内侧击中点偏滤器表面和所述外侧击中点偏滤器表面之间的至少一个专用偏滤器表面；

其中，每个远偏滤器表面和每个专用偏滤器表面包括相应的液态金属入口和液态金属出口，所述液态金属入口和所述液态金属出口被布置成使得液态金属在所述远偏滤器表面和所述专用偏滤器表面之上流动，但不在所述击中点偏滤器表面之上流动。

8.根据前述权利要求中任一项所述的托卡马克等离子体容器，包括液态金属供应装置，所述液态金属供应装置被配置成以相应的流速向每个液态金属入口供应液态金属。

9.根据前述权利要求中任一项所述的托卡马克等离子体容器，其中，所述液态金属流动所在的每个偏滤器表面总体上面朝上方。

10.根据权利要求8所述的托卡马克等离子体容器，其中，所述上偏滤器组件包括液态金属流动所在的、总体上面朝下方的至少一个偏滤器表面，并且其中，所述偏滤器表面处于一角度，使得当所述液态金属供应装置以相应的流速向该表面供应液态金属时，液态金属向所述偏滤器表面的浸润防止液态金属从所述偏滤器表面掉落。

11.根据权利要求10所述的托卡马克等离子体容器，其中，所述偏滤器表面被布置成具有反射对称性，使得所述上偏滤器组件的偏滤器表面是所述下偏滤器组件的偏滤器表面在所述托卡马克等离子体容器的赤道面上的反射像。