[发明专利]用于电化学设备的结构组件和制造这种结构组件的方法在审

专利信息
申请号: 201980043861.9 申请日: 2019-06-28
公开(公告)号: CN112384647A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 彼得·施塔尔;奥利弗·芬克;卡斯藤·达尔;于尔根·克拉夫特 申请(专利权)人: 爱尔铃克铃尔股份公司
主分类号: C25B9/17 分类号: C25B9/17;H01M8/0273;H01M8/0276;H01M8/1018
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 潘小军;韩毅
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 电化学 设备 结构 组件 制造 这种 方法
【权利要求书】:

1.用于电化学设备的结构组件,所述结构组件包括至少一个气体扩散层(104、106)和在所述气体扩散层(104、106)上产生的至少一个密封元件(136、138),其中,所述密封元件(136、138)包括固定在所述气体扩散层(104、106)上的内密封区域(140)和经由所述内密封区域(140)与所述气体扩散层(104、106)相连的外密封区域(142),

其特征在于,

所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域布置在所述内密封区域(140)与所述外密封区域(142)之间,并且

a)所述去负荷区域包括延伸穿过所述密封元件(136、138)的去负荷开口(162)

并且/或者

b)所述去负荷区域具有最小高度(he),所述最小高度小于所述内密封区域(140)的最大高度(HI)的四分之一并且小于所述外密封区域(142)的最大高度(HA)的四分之一。

2.根据权利要求1所述的结构组件,其特征在于,所述内密封区域(140)具有流动场密封线(112),所述流动场密封线围绕所述气体扩散层(104、106)延伸。

3.根据权利要求1或2所述的结构组件,其特征在于,所述外密封区域(142)具有至少一个介质通道密封线(118),所述介质通道密封线围绕所述密封元件(136、138)的介质贯通开口(122)延伸。

4.根据权利要求3所述的结构组件,其特征在于,所述至少一个去负荷区域(160)布置在所述密封元件(136、138)的流动场密封线(112)与介质通道密封线(118)之间。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括多个去负荷区域(160),所述去负荷区域沿所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)相继排列。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域沿所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)延伸并且布置在所述结构组件(156)的拐角区域(166)内,在所述拐角区域内,所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)以大于60°的角度(α)改变其方向。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域沿所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)在小于50mm的长度上延伸。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域具有至少一个倒圆的端部区域(176、178)。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域包括沿所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)延伸的、具有宽度(b)的基本区域(182)和具有拱曲的边缘线的至少一个端部区域(178),所述拱曲的边缘线的拱曲半径(R)大于所述基本区域(182)的宽度(b)的一半。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述外密封区域(142)在考虑到扭曲补偿的情况下形成。

11.根据权利要求10所述的结构组件,其特征在于,沿所述气体扩散层(104、106)的厚度方向(158)设有扭曲补偿。

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