[发明专利]用于电化学设备的结构组件和制造这种结构组件的方法在审
申请号: | 201980043861.9 | 申请日: | 2019-06-28 |
公开(公告)号: | CN112384647A | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 彼得·施塔尔;奥利弗·芬克;卡斯藤·达尔;于尔根·克拉夫特 | 申请(专利权)人: | 爱尔铃克铃尔股份公司 |
主分类号: | C25B9/17 | 分类号: | C25B9/17;H01M8/0273;H01M8/0276;H01M8/1018 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 潘小军;韩毅 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 电化学 设备 结构 组件 制造 这种 方法 | ||
1.用于电化学设备的结构组件,所述结构组件包括至少一个气体扩散层(104、106)和在所述气体扩散层(104、106)上产生的至少一个密封元件(136、138),其中,所述密封元件(136、138)包括固定在所述气体扩散层(104、106)上的内密封区域(140)和经由所述内密封区域(140)与所述气体扩散层(104、106)相连的外密封区域(142),
其特征在于,
所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域布置在所述内密封区域(140)与所述外密封区域(142)之间,并且
a)所述去负荷区域包括延伸穿过所述密封元件(136、138)的去负荷开口(162)
并且/或者
b)所述去负荷区域具有最小高度(he),所述最小高度小于所述内密封区域(140)的最大高度(HI)的四分之一并且小于所述外密封区域(142)的最大高度(HA)的四分之一。
2.根据权利要求1所述的结构组件,其特征在于,所述内密封区域(140)具有流动场密封线(112),所述流动场密封线围绕所述气体扩散层(104、106)延伸。
3.根据权利要求1或2所述的结构组件,其特征在于,所述外密封区域(142)具有至少一个介质通道密封线(118),所述介质通道密封线围绕所述密封元件(136、138)的介质贯通开口(122)延伸。
4.根据权利要求3所述的结构组件,其特征在于,所述至少一个去负荷区域(160)布置在所述密封元件(136、138)的流动场密封线(112)与介质通道密封线(118)之间。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括多个去负荷区域(160),所述去负荷区域沿所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)相继排列。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域沿所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)延伸并且布置在所述结构组件(156)的拐角区域(166)内,在所述拐角区域内,所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)以大于60°的角度(α)改变其方向。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域沿所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)在小于50mm的长度上延伸。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域具有至少一个倒圆的端部区域(176、178)。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述密封元件(136、138)包括至少一个去负荷区域(160),所述去负荷区域包括沿所述气体扩散层(104、106)的周向方向(164)延伸的、具有宽度(b)的基本区域(182)和具有拱曲的边缘线的至少一个端部区域(178),所述拱曲的边缘线的拱曲半径(R)大于所述基本区域(182)的宽度(b)的一半。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的结构组件,其特征在于,所述外密封区域(142)在考虑到扭曲补偿的情况下形成。
11.根据权利要求10所述的结构组件,其特征在于,沿所述气体扩散层(104、106)的厚度方向(158)设有扭曲补偿。
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