[发明专利]感光性树脂组合物、蚀刻方法以及树脂构造体的制造方法

权利要求书

1.一种感光性树脂组合物，其是用于通过含有15质量％～45质量％的碱金属氢氧化物及5质量％～40质量％的乙醇胺化合物的蚀刻液对基材进行蚀刻处理的蚀刻方法中的感光性树脂组合物，其特征在于，

至少含有(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合引发剂及(C)聚合性单体，

作为(C)聚合性单体，含有相对于(C)聚合性单体总量为5质量％～80质量％的通式(i)表示的m+n为2以上且7以下的化合物，

2.一种感光性树脂组合物，其是用于通过含有15质量％～45质量％的碱金属氢氧化物及5质量％～40质量％的乙醇胺化合物的蚀刻液对基材进行蚀刻处理的蚀刻方法中的感光性树脂组合物，其特征在于，

至少含有(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合引发剂及(C)聚合性单体，

(A)碱可溶性树脂是使(I)甲基丙烯酸、(II)苯乙烯衍生物及(III)其他具有乙烯性不饱和基团的单体共聚而得到的共聚物，相对于(I)甲基丙烯酸、(II)苯乙烯衍生物及(III)其他具有乙烯性不饱和基团的单体的总量，(I)甲基丙烯酸为20质量％～40质量％，(II)苯乙烯衍生物为25质量％～50质量％，

作为(C)聚合性单体，含有通式(i)表示的m+n为2以上且20以下的化合物，

作为(C)聚合性单体的通式(i)表示的m+n为2以上且7以下的化合物的含量，相对于(C)聚合性单体总量，为80质量％以下，

3.一种蚀刻方法，其特征在于，至少包含下述工序：

在基材的至少单面上形成含有权利要求1或2中所述的感光性树脂组合物的感光性树脂层的工序1，

使该感光性树脂层曝光、显影而形成抗蚀剂图案的工序2，以及

通过含有15质量％～45质量％的碱金属氢氧化物及5质量％～40质量％的乙醇胺化合物的蚀刻液对基材进行蚀刻处理的工序3。

4.一种具有孔或图案的树脂构造体的制造方法，其特征在于，使用权利要求3中所述的蚀刻方法。