[发明专利]电荷传输性薄膜形成用组合物

说明书

包含在分子内具有9‑叔丁氧基羰基咔唑结构的电荷传输性物质前体和有机溶剂的电荷传输性薄膜形成用组合物即使在低温下烧成的情况下也给予显示良好的电荷传输性的薄膜，另外，上述电荷传输性物质前体可使用与高极性的酰胺系溶剂等相比对由有机化合物构成的基板、构件的损伤低的低极性溶剂来制备组合物。

技术领域

本发明涉及电荷传输性薄膜形成用组合物。

背景技术

在电子元件、特别是有机电致发光(以下称为有机EL)元件中，作为发光层、电荷注入层，使用由有机化合物构成的电荷传输性薄膜。特别地，空穴注入层承担阳极与空穴传输层或发光层的电荷的授受，为了实现有机EL元件的低电压驱动和高亮度而发挥重要的功能。

空穴注入层的形成方法大致分为以蒸镀法为代表的干法和以旋涂法为代表的湿法，如果将这些各方法进行比较，湿法能够大面积地高效率地制造平坦性高的薄膜。因此，在进行着有机EL显示器的大面积化的现在，希望有可采用湿法形成的空穴注入层。

鉴于这样的实际情况，本发明人开发了电荷传输性材料、用于其的对于有机溶剂的溶解性良好的化合物，该电荷传输性材料可应用于各种湿法，同时给予在应用于有机EL元件的空穴注入层的情况下能够实现优异的EL元件特性的薄膜(例如参照专利文献1～4)。

另外，在近年来的有机EL的领域中，由于元件的轻质化·薄型化·柔性化的潮流，在逐渐代替玻璃基板而使用由有机化合物构成的基板、构件。因此，寻求如下的组合物，其能够在比现有产品低的温度下烧成，或者能够使用对这样的基板、构件的损伤低的有机溶剂制备，另外，在这样的情况下也给予具有良好的电荷传输性的薄膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2008/067276号

专利文献2：国际公开第2008/129947号

专利文献3：国际公开第2006/025342号

专利文献4：国际公开第2010/058777号

专利文献5：国际公开第2006/025290号

专利文献6：日本特开2012-236777号公报

非专利文献

非专利文献1：Advanced Functional Materials(2013),23(5),619-628.

发明内容

发明要解决的课题

本发明鉴于上述实际情况而完成，目的在于提供电荷传输性薄膜形成用组合物，其即使在低温下烧成的情况下得到的薄膜也显示良好的电荷传输性，或者可使用与高极性的酰胺系溶剂等相比对由有机化合物构成的基板、构件的损伤低的低极性溶剂来制备组合物，并且该组合物给予在用作空穴注入层的情况下能够实现具有优异的亮度特性的有机EL元件的电荷传输性薄膜。

用于解决课题的手段

本发明人为了实现上述目的反复深入研究，结果发现：在分子内具有9-叔丁氧基羰基咔唑结构的电荷传输性物质前体具有在低极性溶剂中的优异的溶解性，由包含该电荷传输性物质前体的电荷传输性薄膜形成用组合物得到的薄膜即使在低温下烧成的情况下也显示良好的电荷传输性；以及将该薄膜应用于有机EL元件的情况下能够实现优异的元件特性，完成了本发明。

应予说明，在本发明中，所谓“在低温下烧成”，意指“在200℃以下的温度下烧成”。

另外，例如，在专利文献5、6和非专利文献1中公开了将咔唑的9位(N位)用叔丁氧基羰基保护的化合物作为中间体，但在任一文献中都没有公开包含在分子内具有9-叔丁氧基羰基咔唑结构的电荷传输性物质前体和有机溶剂的电荷传输性薄膜形成用组合物。