[发明专利]回声器官复制品和使用增材制造系统的制造方法

权利要求书

1.一种回声器官复制品，包括：

较低声阻抗材料，以及

至少一种较高声阻抗材料，所述至少一种较高声阻抗材料分布在所述较低声阻抗材料内，使得在所述回声器官复制品的不同位置处，所述至少一种较高声阻抗材料分布在所述较低声阻抗材料内，其中，材料分布在整个所述器官复制品中在三个维度上变化，导致器官复制品的回声反射性在三个维度上变化，以复制与相应的体内器官组织相关联的回声反射性的三维变化。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述至少一种较高声阻抗材料包括第一较高声阻抗材料和第二较高声阻抗材料，其中所述第二较高声阻抗材料具有与所述第一较高声阻抗材料不同的弹性。

3.根据权利要求2所述的设备，其中，所述第一较高声阻抗材料和所述第二较高声阻抗材料的布置使得考虑到所述体内器官组织周围的一个或更多个器官，所述回声器官复制品在其表面上具有与由所述回声器官复制品复制的所述体内器官组织的相应位置处的弹性基本相似的弹性。

4.根据权利要求1所述的设备，其中，所述至少一种较高声阻抗材料分布在所述较低声阻抗材料内。

5.根据权利要求4所述的设备，其中，所述至少一种较高声阻抗材料作为分布在所述较低声阻抗材料内的多个微珠分布在所述较低声阻抗材料内。

6.根据权利要求5所述的设备，其中，所述微珠的最小尺寸在0.01mm至1.0mm之间。

7.根据权利要求4所述的设备，其中，在第一位置处分布在所述较低声阻抗材料内的较高声阻抗材料的量与在第二位置处分布在所述较低声阻抗材料内的较高声阻抗材料的量不同。

8.根据权利要求1所述的设备，其中，所述较高声阻抗材料分布在所述至少一种较低声阻抗材料内，使得所述较高声阻抗材料在所述回声器官复制品的所述一个或更多个位置处形成晶格结构。

9.根据权利要求8所述的设备，其中，在第一位置处的所述晶格结构具有导致第一回声反射性的第一间距，并且在第二位置处的所述晶格结构具有导致第二回声反射性的第二间距。

10.根据权利要求1所述的设备，其中，所述较低声阻抗材料包括非聚合材料，所述非聚合材料包括水、凝胶、离子或生物分子中的至少一种。

11.根据权利要求1所述的设备，其中，所述至少一种较高声阻抗材料分布在所述较低声阻抗材料内，使得所述较低声阻抗材料内的较高声阻抗材料的所得空间密度在所述回声器官复制品的所述一个或更多个位置处的所述较低声阻抗材料的体积的约0.1％至10.0％的范围内。

12.根据权利要求1所述的设备，其中，所述较高声阻抗材料分布在所述较低声阻抗材料内，使得在第一位置处的所述较低声阻抗材料内的较高声阻抗材料的所述空间密度在大约1.0％至3.0％的范围内，并且在第二位置处的所述较低声阻抗材料内的较高声阻抗材料的所述空间密度大于3.0％。

13.根据权利要求1所述的设备，其中，所述较低声阻抗材料和所述至少一种较高声阻抗材料包括3D打印材料。

14.根据权利要求1所述的设备，其中，所述体内器官组织包括一种或更多种人或动物器官的器官组织，所述器官包括心脏、肺、胃、膀胱、骨骼、淋巴结、喉、咽、肌肉脉管系统、脊柱、肠、结肠、直肠或眼睛。