[发明专利]反应处理装置

权利要求书

1.一种反应处理装置，其特征在于，包括：

反应处理容器，其具备在第1主表面形成有供样本移动的流路的基板，和密封所述流路地设于所述第1主表面上的流路密封薄膜，

第1光学头，其具备使第1激发光照射所述流路中的样本，并对通过所述第1激发光的照射而从样本产生的第1荧光进行聚光的第1物镜，

第2光学头，其具备使第2激发光照射所述流路中的样本，并对通过所述第2激发光的照射而从样本产生的第2荧光进行聚光的第2物镜，以及

保持构件，其保持所述第1光学头及所述第2光学头；

在所述反应处理装置中，

所述第1光学头及所述第2光学头被沿所述流路的长度方向并列配置，

所述第1荧光的波长范围和所述第2激发光的波长范围的至少一部分重叠，

所述第1物镜的光轴和所述第2物镜的光轴之间的距离P满足以下式：

2·P₀+2·P₁+4·P₂+4·P₃P

其中，L为从所述保持构件到所述流路密封薄膜的距离，t₁为所述流路密封薄膜的厚度，t₂为所述流路的深度，t₃为从所述流路的底部到所述基板的第2主表面的厚度，NA为所述第1物镜及所述第2物镜的数值孔径，n₁为所述流路密封薄膜的折射率，n₃为所述基板的折射率。

2.如权利要求1所述的反应处理装置，其特征在于，

所述距离P进而满足1.1×(2·P₀+2·P₁+4·P₂+4·P₃)≤P，且进而优选满足1.2×(2·P₀+2·P₁+4·P₂+4·P₃)≤P。

3.如权利要求1或2所述的反应处理装置，其特征在于，

所述距离P满足P≤S-2×△S，其中，S为配置所述第1光学头及所述第2光学头的流路的直线部分的长度，△S为1mm。

4.如权利要求1至3的任意一项所述的反应处理装置，其特征在于，

在所述基板的所述流路的底部与所述第2主表面之间，包括吸收激发光的光吸收层。

5.一种反应处理装置，其特征在于，包括：

反应处理容器，其具备在第1主表面形成有供样本移动的流路的基板，和密封所述流路地设于所述第1主表面上的流路密封薄膜，

第1光学头，其具备使第1激发光照射所述流路中的样本，并对通过所述第1激发光的照射而从样本产生的第1荧光进行聚光的第1物镜，

第2光学头，其具备使第2激发光照射所述流路中的样本，并对通过所述第2激发光的照射而从样本产生的第2荧光进行聚光的第2物镜，以及

保持构件，其保持所述第1光学头及所述第2光学头；

在所述反应处理装置中，

所述第1光学头及所述第2光学头被沿所述流路的长度方向并列配置，

所述第1荧光的波长范围和所述第2激发光的波长范围的至少一部分重叠，

所述基板设有吸收激发光的光吸收层。

6.如权利要求5所述的反应处理装置，其特征在于，

所述光吸收层被以满足吸收系数α为α≥0.58/t3’的方式形成，其中，t3’为所述光吸收层的厚度。

7.如权利要求5所述的反应处理装置，其特征在于，

所述光吸收层被以满足吸收系数α为α≥0.75/t3’的方式形成，其中，t3’为所述光吸收层的厚度。

8.如权利要求5所述的反应处理装置，其特征在于，

所述光吸收层被以满足吸收系数α为α≥1.15/t₃’的方式形成，其中，t₃’为所述光吸收层的厚度。