[发明专利]光学单元的支撑在审

专利信息
申请号: 201980044987.8 申请日: 2019-06-25
公开(公告)号: CN112384862A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: M.沃格特;J.哈特杰斯 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B7/182;G02B7/183
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王蕊瑞
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 单元 支撑
【权利要求书】:

1.一种微光刻布置,特别是使用极UV范围(EUV)的光,所述微光刻布置具有

-用于支撑光学单元(106、107)的支撑结构(109;209;309),所述光学单元的质量特别是4t至14t,优选地为5t至10t,更优选地为6t至8t,

其中

-所述支撑结构(109;209;309)包括用于支撑所述光学单元(106、107)的多个分离的支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4;210.1、210.2;310.1、310.2),

-所述支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4;210.1、210.2;310.1、310.2)中的每一个包括空气轴承单元(111.1、111.2、111.3、111.4),通过所述空气轴承单元能够生成能够抵消所述光学单元(106、107)的重力的支撑力,

其特征在于,

-支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4;210.1、210.2;310.1、310.2)的数目至少为四个,

-通过联接装置(112;212;312)联接所述支撑单元(110.1、110.2、110.3、110.4;210.1、210.2;310.1、310.2)中的至少两个以形成支撑单元对,使得所述联接装置(112;212;312)抵消与所述支撑单元对的两个支撑单元(110.1、110.2;210.1、210.2;310.1、310.2)的支撑力的可预先确定比率的偏差。

2.根据权利要求1所述的布置,其中,

-所述支撑力的可预先确定比率为1/3至1/1,优选为1/2至1/1,更优选为2/3至1/1,

和/或

-所述联接装置(112;212;312)配置为至少实质上均衡所述支撑单元对的两个支撑单元(110.1、110.2;210.1、210.2;310.1、310.2)的支撑力的量,

和/或

-所述联接装置(112;212;312)配置为使所述两个支撑单元(110.1、110.2;210.1、210.2;310.1、310.2)的支撑力的量之间的偏差最小化。

3.根据权利要求1或2所述的布置,其中,

-所述支撑单元对中的第一支撑单元(110.1;210.1;310.1)配置为施加第一支撑力,

-所述支撑单元对中的第二支撑单元(110.2;210.2;310.2)配置为施加第二支撑力,并且

-所述联接装置(112;212;312)配置为,使得所述第一支撑力的量与所述第二支撑力的量的偏差小于1.0%,优选地小于0.5%,更优选地小于0.1%。

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