[发明专利]RIP1抑制性化合物以及制备和使用其的方法在审
申请号: | 201980045101.1 | 申请日: | 2019-05-02 |
公开(公告)号: | CN112368278A | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 埃斯特班·马苏达;西蒙·肖;瓦妮莎·泰勒;索马塞卡·巴米迪帕提 | 申请(专利权)人: | 里格尔药品股份有限公司 |
主分类号: | C07D413/14 | 分类号: | C07D413/14;C07D413/12;A61P37/02;A61P29/00;A61K31/553 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 张禹 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | rip1 抑制 化合物 以及 制备 使用 方法 | ||
1.一种化合物,所述化合物具有式
或其药学上可接受的盐,其中:
环B是5元或6元杂芳基;
L是杂原子或Ra,其条件是Ra不是H或D;
Z是C1-10脂肪族(例如C1-10烷基、C2-10烯基、C2-10炔基或C3-6环烷基);或
R1是卤素、-C≡CH、或-接头-R6基团,其中所述接头是Ra,其条件是Ra不是H或D,并且R6是Rb、-C(Rf)3、或-C(Rf)=C(Rf)2;
R2和R3独立地是Ra;
R4和R5独立地是Re;
对于每次出现,Ra独立地是H、D、C1-10脂肪族、C1-10卤代脂肪族、C5-10芳香族、或C3-6杂环;
对于每次出现,Rb独立地是OH、-SH、-ORc、-SRc、-NRdRd、-Si(Ra)3、-C(O)OH、-C(O)ORc、或-C(O)NRdRd;
对于每次出现,Rc独立地是C1-10烷基、C2-10烯基、C2-10炔基、C3-6环烷基、或C5-10芳香族;
对于每次出现,Rd独立地是H;C1-6烷基;C3-6环烷基;C3-6杂环;C5-10芳基;C5-10杂芳基;或两个Rd基团连同其结合的氮提供C3-9杂环、或C5-10杂芳基;
对于每次出现,Re独立地是卤素、C1-6烷基、C2-10烯基、C2-10炔基、C1-6卤代烷基、C3-6环烷基、C5-10杂芳基、或-ORa;
对于每次出现,Rf独立地是Ra、Rb、或Re,或两个Rf基团连同其结合的碳原子一起提供C3-6环烷基基团或C3-10杂环;
m是1至4;
n是0、1或2;并且
p是0、1、2、3、4或5。
2.如权利要求1所述的化合物,其中所述化合物具有式
3.如权利要求或权利要求2所述的化合物,其中所述化合物具有有满足下式的结构:
其中L是氧或-CH2-。
4.如权利要求1-3中任一项所述的化合物,其中环B具有满足式的结构,其中至少一个W是氮,并且每个剩余的W独立地选自碳、CH、氧、硫、氮、或NH。
5.如权利要求1-4中任一项所述的化合物,其中环B是二唑、三唑、噁二唑、噁唑、或吡啶基。
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