[发明专利]用于确定至少一个存储单元中的填充水平的方法和装置在审
申请号: | 201980045768.1 | 申请日: | 2019-05-08 |
公开(公告)号: | CN112384951A | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | C·邦西诺;C·席尔德克内希特;P·希伦;P·辛德勒;E·马特沃斯詹;C·朗根施密德;R·森德;I·布鲁德 | 申请(专利权)人: | 特里纳米克斯股份有限公司 |
主分类号: | G06T7/586 | 分类号: | G06T7/586;G06T7/62 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 杨晓光;于静 |
地址: | 德国莱茵河*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 确定 至少 一个 存储 单元 中的 填充 水平 方法 装置 | ||
1.一种用于确定至少一个存储单元(112)中的填充水平的方法,包括以下步骤:
a)采用包括多个照射特征(118)的至少一个照射图案(116)照射所述存储单元(112),并确定所述存储单元(112)的至少一个反射图像;
b)选择所述反射图像的至少一个第一反射特征和至少一个第二反射特征;
c)对于所述第一反射特征,响应于所述第一反射特征对具有光学传感器(124)矩阵的至少一个传感器元件(120)的照射而生成至少两个第一传感器信号,以及对于所述第二反射特征,响应于所述第二反射特征对所述传感器元件(120)的照射而生成至少两个第二传感器信号,所述光学传感器(124)各自具有光敏区域;
d)评估在步骤c)中生成的所述两个第一传感器信号,从而确定所述第一反射特征的至少一个第一纵向坐标z1,以及评估在步骤c)中生成的所述两个第二传感器信号,从而确定所述第二反射特征的至少一个第二纵向坐标z2,
e)在所述反射图像中确定所述第一反射特征的至少一个位置(x1,y1)和所述第二反射特征的至少一个位置(x2,y2),以及确定所述第一反射特征的至少一个第一矢量(x1,y1,z1)和所述第二反射特征的至少一个第二矢量(x2,y2,z2);
f)根据所述第一矢量和所述第二矢量确定至少一个高度图,并由此确定所述存储单元中的所述填充水平。
2.根据前述权利要求所述的方法,其中,所述评估包括:评估来自所述至少两个第一传感器信号的第一组合信号Q1以及来自所述至少两个第二传感器信号的第二组合信号Q2。
3.根据前述权利要求所述的方法,其中,所述第一组合信号Q1通过以下中的一种或多种来得出:划分所述两个第一传感器信号,划分所述两个第一传感器信号的倍数,划分所述两个第一传感器信号的线性组合;以及其中,所述第二组合信号Q2通过以下中的一种或多种来得出:划分所述两个第二传感器信号,划分所述两个第二传感器信号的倍数,划分所述两个第二传感器信号的线性组合。
4.根据前述两项权利要求中任一项所述的方法,其中,所述组合信号Qi,其中i=1、2,通过下式得出:
其中,x和y是横向坐标,A1和A2是相应的反射特征的至少一个束轮廓在所述传感器元件的所述位置处的不同区域,E(x,y,zo)表示在所述存储单元(112)的距离zo处给出的束轮廓,其中,所述传感器信号中的每个传感器信号包括相应的反射特征的所述束轮廓的至少一个区域的至少一个信息。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,所述方法包括:确定相应的反射特征的所述束轮廓的第一区域和相应的反射特征的所述束轮廓的第二区域,其中,相应的反射特征的所述束轮廓的所述第一区域基本上包括相应的反射特征的所述束轮廓的边缘信息,以及相应的反射特征的所述束轮廓的所述第二区域基本上包括相应的反射特征的所述束轮廓的中心信息,其中,所述边缘信息包括与在相应的反射特征的所述束轮廓的所述第一区域中的多个光子有关的信息,以及所述中心信息包括与在相应的反射特征的所述束轮廓的所述第二区域中的多个光子有关的信息。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,评估所述第一反射特征的所述第一传感器信号和评估所述第二反射特征的所述第二传感器信号包括:
-确定具有最高传感器信号的至少一个光学传感器(120),并形成至少一个中心信号;
-评估所述矩阵的所述光学传感器(120)的所述传感器信号,并形成至少一个和信号;
-通过组合所述中心信号和所述和信号来确定至少一个组合信号;以及
-通过评估所述组合信号来确定纵向区域。
7.根据前述五项权利要求中任一项所述的方法,其中,所述第一组合信号Q1与所述第一纵向坐标z1之间的至少一个第一预定关系被用于确定所述第一纵向坐标,以及其中,所述第二组合信号Q2与所述第二纵向坐标z2之间的至少一个第二预定关系被用于确定所述第二纵向坐标。
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