[发明专利]摄像元件、层叠型摄像元件和固态摄像装置在审
申请号: | 201980046197.3 | 申请日: | 2019-07-03 |
公开(公告)号: | CN112385044A | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 定荣正大;村田贤一;平田晋太郎;林利彦 | 申请(专利权)人: | 索尼半导体解决方案公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L51/42;H04N5/359;H04N5/369 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 陈桂香;曹正建 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 摄像 元件 层叠 固态 装置 | ||
1.一种摄像元件,其包括:
光电转换部,所述光电转换部包括相互层叠起来的第一电极、光电转换层和第二电极,
其中,在所述光电转换层的正下方,从所述光电转换层侧形成有氧化膜和氧化物半导体层。
2.根据权利要求1所述的摄像元件,其中
构成所述氧化膜的元素之中的至少一部分不同于构成所述氧化物半导体层的元素。
3.根据权利要求1所述的摄像元件,其中
假设E2表示在所述氧化物半导体层的导带的最大能量值处的能量平均值,并且E1表示在所述氧化膜的导带的最大能量值处的能量平均值,则满足
E1-E2≥-0.4(eV)。
4.根据权利要求3所述的摄像元件,其中
假设E0表示在所述光电转换层的LUMO值处的能量平均值,则满足
E0-E1≥-0.4(eV)。
5.根据权利要求4所述的摄像元件,其中
满足E0≥E1≥E2。
6.根据权利要求1所述的摄像元件,其中
假设E4表示在所述氧化膜的价带的最小能量值处的能量平均值,并且E3表示在所述光电转换层的HOMO值处的能量平均值,则满足
E3-E4≥-0.4(eV)。
7.根据权利要求6所述的摄像元件,其中
假设E5表示在所述氧化物半导体层的价带的最小能量值处的能量平均值,则满足
E4-E5≥-0.4(eV)。
8.根据权利要求7所述的摄像元件,其中
满足E3≥E4≥E5。
9.根据权利要求1所述的摄像元件,其中
构成所述氧化膜的材料包括金属氧化物。
10.根据权利要求9所述的摄像元件,其中
所述金属氧化物含有从由钽、钛、钒、铌、钨、锆、铪、钪、钇、镧、镓和镁组成的群组中选择的至少一种元素。
11.根据权利要求10所述的摄像元件,其中
在所述氧化膜中添加有从由硅、钽、钒、铌、钨、锆、铪、钪、钇、镧、镓、镁、铝、锶、锗、氢、碳和氮组成的群组中选择的至少一种元素,但是该元素不同于构成所述金属氧化物的元素。
12.根据权利要求9所述的摄像元件,其中
所述氧化膜的厚度为一个原子层以上且1×10-7m以下。
13.根据权利要求1所述的摄像元件,其中
所述氧化膜包括隧道氧化膜。
14.根据权利要求13所述的摄像元件,其中
所述隧道氧化膜含有从由SiOX、SiON、SiOC和AlOY组成的群组中选择的至少一种材料。
15.根据权利要求13所述的摄像元件,其中
所述隧道氧化膜的厚度为一个原子层以上且5×10-9m以下。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的